鍍膜設(shè)備PCVD技術(shù)具有沉積溫度低，真空鍍膜設(shè)備，沉積速率快，繞鍍性好，薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，設(shè)備操縱維護(hù)簡單等優(yōu)點(diǎn)，中國臺(tái)灣鍍膜設(shè)備，用PCVD法調(diào)節(jié)工藝參數(shù)方便靈活，輕易調(diào)整和控制薄膜厚度和成份組成結(jié)構(gòu)，沉積出多層復(fù)合膜及多層梯度復(fù)合膜等優(yōu)質(zhì)膜，同時(shí)，PCVD法還拓展了新的低溫沉積領(lǐng)域，納米鍍膜設(shè)備，例如，用PCVD法可將TiN的反應(yīng)溫度由CVD法的1000℃降到200～500℃，用PCVD法制備納米陶瓷薄膜的特點(diǎn)是：產(chǎn)品的楊氏模量、抗壓強(qiáng)度和硬度都很高，耐磨性好，化學(xué)性能穩(wěn)定，性和腐蝕性好，有較高的高溫強(qiáng)度。

物理氣相沉積涂層設(shè)備，該設(shè)備包括耐高壓真空爐腔、轉(zhuǎn)爐架、真空系統(tǒng)、陰極電弧系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、高溫軸承等，同時(shí)采用開發(fā)的先進(jìn)的真空磁控陰極電弧技術(shù)，將具有超高硬度、更強(qiáng)結(jié)合力、均勻一致的納微米超硬薄膜運(yùn)用于刀具、各類模具以及機(jī)械零部件表面，壽命提高達(dá)到3-10倍以上。

研究制備的各類PVD涂層包括高硅涂層、高鋁涂層（氮鋁化鈦）、Cr-Al涂層（AlCrN）、TiCN（氮碳化鈦）涂層、TiN（氮化鈦）涂層、類金剛石（DLC）涂層等。涂層具有光滑、致密、硬度高、耐高溫、抗磨損、防氧化等特點(diǎn)，能夠進(jìn)行批量和工業(yè)化生產(chǎn)應(yīng)用。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，真空鍍膜設(shè)備公司，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

真空鍍膜機(jī)工作的環(huán)境要求：      

真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。

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