微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MW-PCVD）

微波等離子體的特點(diǎn)是能量大，活性強(qiáng)。激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)原子多，化學(xué)反應(yīng)輕易進(jìn)行，是一種很有發(fā)展前途、用途廣泛的新工藝，微波頻率為2.45GHz，

微波放電與直流輝光放電相比具有設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，輕易起輝，耦合效率高，真空鍍膜設(shè)備，工作穩(wěn)定，新北鍍膜設(shè)備，無氣體污染及電極腐蝕，工作頻帶寬等優(yōu)點(diǎn)，裝置主要由微波發(fā)生器、環(huán)形器、定向耦合器、表面波導(dǎo)放電部分及沉積室組成。

等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)原理是利用低溫等離子體（非平衡等離子體）作能量源，工件置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使工件升溫到預(yù)定的溫度，然后通進(jìn)適量的反應(yīng)氣體，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，在工件表面形成固態(tài)薄膜。它包括了化學(xué)氣相沉積的一般技術(shù)，真空鍍膜設(shè)備廠，又有輝光放電的強(qiáng)化作用。

金屬鈀及其合金具有很強(qiáng)的氫氣吸附能力和特殊的選擇滲透能力，是理想的氫氣儲(chǔ)存和凈化材料 。目前，真空鍍膜設(shè)備廠家， 通常使用整體鈀合金或鍍鈀等方法制造氫凈化設(shè)備。近年來，有研究者嘗試采用化學(xué)氣相沉積法制備鈀的薄膜或薄層材料 ， 他們選用分解溫度很低的金屬有機(jī)化合物作為沉積鈀的源物質(zhì)，他們是:烯丙基[β-酮] Pd(Ⅱ)、Pd(η3 -C 3 H 5 )(η 5-C 5 H 5 )和 Pd(η3-C 3 H 5)(CF 3 COCHCOCF 3 )等。采用化學(xué)氣相沉積法可以制備高純度的鈀薄膜 。

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