金屬鉻靶材Cr99.9%，物理性質(zhì)顏色銀白色密度7.19g/cm3熔點(diǎn)1857℃技術(shù)指標(biāo)純度99.99%相對(duì)致密度

>99%切面平整度3.2Ra公差&plu**n;0.1mm晶粒度均勻材質(zhì)Cr品牌ALLUTER產(chǎn)地廣東深圳產(chǎn)品規(guī)格規(guī)格01多弧

靶：直徑1mm規(guī)格02矩形：長(zhǎng)度：不限寬度：不限厚度：不限矩形,圓形，管靶，可開(kāi)臺(tái)階狀打孔等(長(zhǎng)寬可

拼接）規(guī)格03圓柱：外直徑1mm壁度>1mm長(zhǎng)度>1mm（管材/圓環(huán)/旋轉(zhuǎn)靶材）規(guī)格:顆粒，粉末.規(guī)格根據(jù)用戶

需要進(jìn)行定制，來(lái)樣加工，來(lái)圖加工*少起訂量1件，量大優(yōu)惠交貨期單片材料2日內(nèi)發(fā)貨，量大1到2周，原

材料各種尺寸大量備貨，長(zhǎng)期供應(yīng)。

    銦作為稀散金屬在地殼中含量極低,但資源儲(chǔ)量和產(chǎn)量分布極為集中。銦在戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展中具有

極為重要的作用,是平板顯示、電子半導(dǎo)體和光伏等產(chǎn)業(yè)不可或缺的原料,使其成為關(guān)注的熱點(diǎn)。

顯示行業(yè)主要在顯示面板和觸控屏面板兩個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)環(huán)節(jié)需要使用靶材濺射鍍膜。用于高清電視、筆記本

電腦等。平板顯示靶材技術(shù)要求也很高，它要求材料高純度、面積大、均勻性程度高。半導(dǎo)體晶圓制造中

200mm（8寸）及以下晶圓制造通常以鋁制程為主，使用的靶材以鋁、鈦元素為主。300mm（12寸）晶圓制

造，多使用先進(jìn)的銅互連技術(shù)，主要使用銅、鉭靶材。同時(shí)也用鈦材料作為高介電常數(shù)的介質(zhì)金屬柵極技

術(shù)的主要材料，鋁材料作為晶圓接合焊盤工藝的主要材料。

    濺射鍍膜的原理是在真空條件下，通過(guò)電子氬離子對(duì)靶材表面進(jìn)行轟擊，靶材表面材料以分子、原子

、離子或電子等形式被濺射出來(lái)，飛濺到基板上沉積成膜。目前鍍膜行業(yè)使用的磁控濺射旋轉(zhuǎn)靶材，包括

襯管，其兩端端部上均設(shè)有內(nèi)凹的密封槽，用于放置密封圈以達(dá)到安裝后的密封性。由于旋轉(zhuǎn)靶材襯管一

般由鋁、鋁合金、銅或銅合金制成，使得其自身強(qiáng)度不是很高，旋轉(zhuǎn)靶材端部管壁較薄，在端部上設(shè)置密

封槽，進(jìn)一步減薄了端部管壁厚度，使得旋轉(zhuǎn)靶材在安裝過(guò)程中容易出現(xiàn)變形而安裝不上等情況，從而需

要更換新的旋轉(zhuǎn)靶材，造成極大的浪費(fèi)。面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極平板。當(dāng)前國(guó)內(nèi)平

板顯示和光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,ITO靶材制造技術(shù)不斷取得突破,未來(lái)我國(guó)將可能會(huì)成為銦純進(jìn)口國(guó),應(yīng)大力發(fā)

展國(guó)內(nèi)再生銦產(chǎn)業(yè),建立健全銦儲(chǔ)備機(jī)制,并加強(qiáng)與重要資源國(guó)的產(chǎn)能合作,保障國(guó)內(nèi)新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資源需

求。