在競爭格局上，由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高，長期以來全球濺射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等為代表的濺射靶材生產(chǎn)商占據(jù)全球絕大部分市場份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，同時不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個應(yīng)用領(lǐng)域，牢牢把握著全球濺射靶材市場的主動權(quán)，并引領(lǐng)著全球濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。至于其應(yīng)用領(lǐng)域，主要集中在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、平板顯示產(chǎn)業(yè)（含觸摸屏產(chǎn)業(yè)）以及太陽能電池產(chǎn)業(yè)。到這里，知道了高純?yōu)R射靶材，知道了金屬靶材的鋁、鈦、銅、鉭。那怎么判斷哪個金屬應(yīng)用幾寸晶圓上，哪個用在先進(jìn)制造工藝上？

      靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。貴金屬的深加工技術(shù)朝高純化、精細(xì)化、高效率的方向發(fā)展。由于鉭的表面能形成致密穩(wěn)定、介電強(qiáng)度高的無定形氧化膜，易于準(zhǔn)確方便地控制電容器的陽極氧化工藝，面積，高低溫特性好、使用壽命長、綜合性能優(yōu)異、其他電容器難以與之媲美，國外對高純金屬材料的開發(fā)研究較早，英國和俄羅斯等國家意志以來都十分重視高純金屬材料的研制、生產(chǎn)和應(yīng)用。其生產(chǎn)的高純金屬材料品種齊全、質(zhì)量好、產(chǎn)量大，產(chǎn)品純度高可達(dá)6N以上。貴金屬因其優(yōu)良的理化性能和高可靠性，成為保證半導(dǎo)體器件性能和發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)必不可少及的材料。此外，玫瑰金靶材、1N14靶材、2N18靶材等金銅合金靶材。在高端裝飾鍍膜中也有著廣泛的應(yīng)用。