PECVD-200B等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積-國產(chǎn)一區(qū)二區(qū)三區(qū)一區(qū)|99久久精品國內(nèi)
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該設(shè)備是一臺(tái)高真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備，可用于生長(zhǎng)sio2、si3n4、非晶si：h、多晶si、sic、w、ti-si、gaas、gasb等介電、半導(dǎo)體及金屬膜。等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積可以較大幅度地降低沉積反應(yīng)的溫度，使cvd在熱穩(wěn)定性差的基底表面上進(jìn)行沉積成為可能。例如可以在低熔點(diǎn)的al或低軟化點(diǎn)的有機(jī)聚合物基底表面上進(jìn)行cvd鍍膜。也可以在高溫下發(fā)生相變的金屬或合金表面進(jìn)行cvd鍍膜。反應(yīng)溫度的降低還可以有效抑制半導(dǎo)體器件制作過程中的層間擴(kuò)散和降低熱應(yīng)力失配。
主要技術(shù)指標(biāo)
1，極限真空：6.6×10-5pa
2，工作真空：6.6×10-4pa
3，基片加熱溫度：室溫至300℃
4，升壓率：停機(jī)1小時(shí)≤1 pa
真空設(shè)備 ; 鍍膜設(shè)備 ; 鍍膜材料 ; 磁控濺射鍍膜 ; 電子束蒸發(fā)鍍膜 ; 電阻加熱蒸發(fā)鍍膜 ; 真空電源
生產(chǎn)組裝磁控濺射鍍膜設(shè)備、電阻加熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)、化學(xué)氣象沉積鍍膜機(jī)、多功能鍍膜機(jī)、真空冶煉爐、DEQ-400氣體放電等離子體測(cè)試裝置；磁控濺射鍍膜設(shè)備、電阻加熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)、化學(xué)氣象沉積鍍膜機(jī)、多功能鍍膜機(jī)、真空冶煉爐、DEQ-400氣體放電等離子體測(cè)試裝置的技術(shù)開發(fā)；銷售機(jī)械設(shè)備、儀器儀表、電子產(chǎn)品；...
北京泰科諾科技(集團(tuán)）公司成立于1997年，是一家專業(yè)從事真空設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的專業(yè)化公司。公司位于北京市海淀區(qū)西三旗，烏魯木齊設(shè)有分公司。公司主要技術(shù)骨干來源于中科院各單位，充分發(fā)揮中科院的人才優(yōu)勢(shì)、技術(shù)優(yōu)勢(shì)、信息優(yōu)勢(shì)，為中國真空設(shè)備的崛起而發(fā)揮應(yīng)有的作用。共有六大類產(chǎn)品，從低真空－高真空－超高真空十多個(gè)系列六十多個(gè)品種。主要產(chǎn)品處于國...