源瓶(起泡器)用于固態(tài)、液態(tài)及氣態(tài)超純物料類的封裝,涉及微正壓、常壓、中低壓的危險化學品,所以對源瓶的安全性和潔凈度提出嚴苛的要求。
源瓶特點:
1、所有管件采用316L不銹鋼,內部經400目機械拋光和電化學拋光,Ra≦0.25微米;
2、閥門有美國世偉洛克球閥和隔膜閥、日本富士金隔膜閥和韓國TK隔膜閥供選擇;
3、密封墊片選用純銀鍍鎳墊片;
4、氦質譜檢測泄漏率≦1.0*10-10mbarL/s;
5、可盛裝化學品純度≧99.9995;
6、總殘余元素量≦50PPb;
7、墜落試驗,通過國家商檢部門檢測;
8、介質,TMG\TEG\TMA\TMIN\DEE等;
9、可選擇氣動閥門或者實現(xiàn)在注入端子、輸出端子以及接口之間的交叉清掃處理等;
10、可提供非標定做。
ALD,PE-ALD,PE-CVD,ALD/MO源瓶
技術推廣;組織文化藝術交流活動(不含演出及棋牌娛樂);銷售電氣機械、通用設備、專用設備、電子產品;委托加工;維修家用電器、儀器儀表。(依法須經批準的項目,經相關部門批準后依批準的內容開展經營活動。)
北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國·首都北京密云經濟技術開發(fā)區(qū),主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業(yè)經驗,同時還與北京工業(yè)大學聯(lián)合研發(fā)等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足...