技術(shù)指標(biāo)：
1.真空室的極限真空度達(dá)5*10-5pa，漏率為關(guān)機(jī)12小時≤5pa
2.真空腔內(nèi)配有集約樣品臺一套，配有大擋板和16套小擋板，手動
控制，開關(guān)方便快捷，每個小擋板擋兩塊30*30mm樣片
3. 蒸發(fā)源共14套，其中10套有機(jī)蒸發(fā)源，4套金屬蒸發(fā)源?？販?/p>
精度±1℃，可以實現(xiàn)溫度或電流補(bǔ)償實現(xiàn)蒸鍍速率穩(wěn)定的功能
4. 金屬蒸發(fā)源配4臺一帶一1000W可控硅調(diào)壓電源，通過銅電極
連接，兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟，鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒
材料，鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料，蒸發(fā)源采用陶瓷全密封，避免交
叉污染
5. 有機(jī)蒸發(fā)源配10臺一帶一溫控電源，有機(jī)源溫度為室溫-500度，
可以根據(jù)材料及用戶需求自行調(diào)節(jié)
6. 樣品臺具有旋轉(zhuǎn)、升降功能，可在線更換掩膜板一次，可同時裝
載30mm*30mm樣品16塊。本產(chǎn)品每兩個樣品都配有小擋板，
并且通過PLC控制步進(jìn)電機(jī)對每個小擋板做16個定位，使機(jī)械手
推拉小擋板，樣品與蒸發(fā)源之間的間距為200-300mm
鍍膜機(jī) , 熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) , 磁控鍍膜機(jī) , 磁控濺射鍍膜機(jī)
ALD，PE-ALD，PE-CVD，ALD/MO源瓶
技術(shù)推廣；組織文化藝術(shù)交流活動（不含演出及棋牌娛樂）；銷售電氣機(jī)械、通用設(shè)備、專用設(shè)備、電子產(chǎn)品；委托加工；維修家用電器、儀器儀表。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后依批準(zhǔn)的內(nèi)容開展經(jīng)營活動。）
北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司，原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司，創(chuàng)立于2013年，位于中國·首都北京密云經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制、淺藍(lán)納米科技三個部分，是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司，公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗，同時還與北京工業(yè)大學(xué)聯(lián)合研發(fā)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，與北京交通大學(xué)聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng)，滿足...