工藝特點(diǎn)

（1）廣泛應(yīng)用于金屬涂層、陶瓷涂層、無(wú)機(jī)涂層材料等。

（2）在產(chǎn)量方面，從單件到大批量皆可。

（3）有質(zhì)量?jī)?yōu)勢(shì)，小型氣相沉積設(shè)備，沉積溫度低，薄膜成份易控，膜厚與淀積時(shí)間成正比，均勻性，重復(fù)性好，臺(tái)階覆蓋性優(yōu)良。

（4）工具涂層的生產(chǎn)效率不如PVD，具體取決于特定技術(shù)要求和輔助工藝。

4、適用材料

化學(xué)氣相沉積曾是真空技術(shù)廣泛用于陶瓷沉積的一種技術(shù)，特別是對(duì)工具涂層更是這樣。

20世界80年代早期隨著等離子體輔助PVD工藝的顯露，CVD在工具方面的應(yīng)用衰落了。但由于這種工藝具有非常好的滲入特性，其在CVI、ALE等領(lǐng)域的工藝中有著很好的應(yīng)用前景，主要用于金屬涂層、陶瓷涂層、無(wú)機(jī)涂層材料。

微波等離子體化學(xué)氣相沉積（MW-PCVD）

微波等離子體的特點(diǎn)是能量大，活性強(qiáng)。激發(fā)的亞穩(wěn)態(tài)原子多，化學(xué)反應(yīng)輕易進(jìn)行，是一種很有發(fā)展前途、用途廣泛的新工藝，微波頻率為2.45GHz，

微波放電與直流輝光放電相比具有設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，輕易起輝，耦合效率高，工作穩(wěn)定，無(wú)氣體污染及電極腐蝕，氣相沉積設(shè)備廠商，工作頻帶寬等優(yōu)點(diǎn)，裝置主要由微波發(fā)生器、環(huán)形器、定向耦合器、表面波導(dǎo)放電部分及沉積室組成。

周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，氣相沉積設(shè)備，在真空室沒有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周，油封式機(jī)械泵不宜抽除對(duì)金屬有腐蝕性、對(duì)真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時(shí)，對(duì)泵油的污染會(huì)更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。

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