電子級正己烷——從硅片表面清洗到聚合反應溶劑的多元應用

正己烷作為低沸點烴類溶劑，在半導體硅片表面的油脂類顆粒清洗和光刻膠樹脂的溶液聚合反應中均有應用。其快速揮發(fā)特性使得清洗后的硅片無需高溫烘烤即可進入下一道工序。山東安達化工電子級正己烷的純度≥99.5%（含異構體），水分≤0.01%，芳烴≤10ppm，不揮發(fā)物≤2ppm，硫≤1ppm。

在半導體光刻膠樹脂的合成中，正己烷常作為沉淀劑或聚合反應溶劑使用。其純度直接影響樹脂的分子量分布和透光率。山東安達化工通過加氫脫芳和5A分子篩吸附工藝，將產品的紫外吸光度（在200nm處）控制在0.1以下，確保不會在樹脂中引入紫外吸收雜質。

對于使用正己烷進行硅片蒸汽干燥工藝的客戶，山東安達化工還可提供更高純度的“色譜級”規(guī)格產品，其雜質峰數(shù)量在GC-FID檢測條件下不超過5個，總雜質峰面積≤0.5%。產品包裝為鍍錫鐵桶或高純鋁瓶。