場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡2、場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

中國(guó)科學(xué)院廣州化學(xué)研究所分析測(cè)試中心

事業(yè)部--高工--

產(chǎn)品型號(hào):nova nanosem 450

生產(chǎn)廠家:荷蘭fei公司

儀器介紹:nova nanosem 450場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡可實(shí)現(xiàn)固體樣品的微觀形貌觀察和微區(qū)能譜成分分析及線分布、面分布分析；配備的背散射探頭可獲得樣品的成分襯度圖片；配備的低真空探頭可對(duì)不導(dǎo)電樣品進(jìn)行形貌及成分分析，而不需要進(jìn)行噴金處理。

主要附件：

· 超高強(qiáng)度schottky場(chǎng)發(fā)射燈絲；

· se、tld探測(cè)器；

· 低真空探測(cè)器；

· 低真空高分辨探測(cè)器；

· 背散射探測(cè)器；

· 牛津x-max 50電制冷能譜儀；

· ccd紅外相機(jī)；

技術(shù)參數(shù):

· 高真空模式分辨率：1nm ( 15kv)；1.6 nm (1kv)；

· 低真空模式分辨率：1.5nm（10kv，helix探測(cè)器)，1.8nm（3kvhelix探測(cè)器)

· 標(biāo)樣放大倍數(shù)：40倍～40萬(wàn)倍

· 加速電壓：加速電壓 50v - 30kv，連續(xù)可調(diào)

· 傾斜角度：-10°～70°

· 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍：x=y=110mm；

· edax能譜能量分辨率126ev，成分范圍b~u，束斑影響區(qū)1μm左右

應(yīng)用范圍:廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、生物、地學(xué)、礦物、金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、高分子、復(fù)合材料、納米材料等領(lǐng)域的研究和產(chǎn)品檢驗(yàn)。 

場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

產(chǎn)品型號(hào): sirion 200

生產(chǎn)廠家:荷蘭fei公司

儀器介紹:sirion場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡可實(shí)現(xiàn)固體樣品的微觀形貌觀察和微區(qū)能譜成分分析及線分布、面分布分析，可對(duì)晶體樣品的晶粒取向和取向關(guān)系等進(jìn)行分析，還可以獲取的電壓下薄樣品的明/暗場(chǎng)掃描透射像。

主要附件：

· 超高強(qiáng)度schottky場(chǎng)發(fā)射燈絲；

· se、tld探測(cè)器；

· ccd紅外相機(jī)；

· edax能譜儀；

· 取向成像電子顯微分析系統(tǒng)（omi/ebsp）；

· 掃描透射附件；

技術(shù)參數(shù):

· 分辨率：1.5nm ( 10kv)；2.5nm (1kv)；3.5nm (500v)；

· 標(biāo)樣放大倍數(shù)：40倍～40萬(wàn)倍

· 加速電壓：200 v - 30 kv, 連續(xù)可調(diào)

· 傾斜角度：-10°～45°

· edax能譜能量分辨率130ev，成分范圍b~u，束斑影響區(qū)1μm左右

· stem附件可同時(shí)放置8個(gè)樣品進(jìn)行掃描透射觀察，對(duì)低原子序數(shù)樣品也可獲得較好襯度的暗場(chǎng)像，特別適合高分子材料、生物材料的觀察

· oim/ebsp分辨率達(dá)1300×1024以上，灰度4096，角度分辨率達(dá)0.5°以上，用來采集和分析掃描電鏡中的電子背散射衍射花樣，相鑒定數(shù)據(jù)庫(kù)包攬七大晶系，功能十分強(qiáng)大。

應(yīng)用范圍:廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、生物、地學(xué)、礦物、金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、高分子、復(fù)合材料、納米材料等領(lǐng)域的研究和產(chǎn)品檢驗(yàn)。 

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