在今天，討論化學(xué)氣相沉積與物理氣相沉積的不同點(diǎn)，恐怕只剩下用于鍍膜物料形態(tài)的區(qū)別，前者是利用易揮發(fā)性化合物或氣態(tài)物質(zhì)，而后者則利用固相(或液相)物質(zhì)。這種區(qū)分似乎已失去原來定義的內(nèi)涵實(shí)質(zhì)。

我們?nèi)匀话凑找延械牧?xí)慣，主要以上述鍍料形態(tài)的區(qū)別來區(qū)分化學(xué)氣相沉積和物理氣相沉積，把固態(tài)(液態(tài))鍍料通過高溫蒸發(fā)、濺射、電子束、等離子體、離子束、激光束、電弧等能量形式產(chǎn)生氣相原子、分子、離子(氣態(tài)，等離子態(tài))進(jìn)行輸運(yùn)，在固態(tài)表面上沉積凝聚(包括與其他反應(yīng)氣相物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成反應(yīng)產(chǎn)物)，生成固相薄膜的過程稱為物理氣相沉積。

在真空度較高的環(huán)境下，通過加熱或高能粒子轟擊的方法使源材料以原子、分子或離子的形式逸出沉積物粒子，并且逸出的粒子在基片上沉積形成薄膜的技術(shù)。.PVD大家族里主要有三位成員：真空蒸發(fā)沉積技術(shù)（蒸鍍）；濺射沉積技術(shù)；離化PVD技術(shù)。

蒸鍍是在真空環(huán)境下，以各種加熱方式賦予待蒸發(fā)源材料以熱量，使源材料物質(zhì)獲得所需的蒸汽壓而實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)，所發(fā)射的氣相蒸發(fā)物質(zhì)在具有適當(dāng)溫度的基片上不斷沉積而形成薄膜的沉積技術(shù)。

PVD是一種出色的真空鍍膜工藝，可改善耐磨性和耐腐蝕性。它對于功能性應(yīng)用非常需要，例如工具，裝飾件，光學(xué)增強(qiáng)，模具，模具和刀片。這些只是各種各樣已經(jīng)建立好的應(yīng)用程序的幾個(gè)例子。

此技術(shù)中使用的設(shè)備維護(hù)成本低，化學(xué)氣相沉積設(shè)備，并且對環(huán)境無害。PVD涂層的好處很多。如PVD可以提供真正獨(dú)特的優(yōu)勢，化學(xué)氣相沉積設(shè)備報(bào)價(jià)，從而增加產(chǎn)品的耐用性和價(jià)值。沉積技術(shù)在機(jī)加工過程中具有重要作用。

機(jī)加工工具可能是緊急的應(yīng)用之一，需要一些特性，例如高溫下的硬度，金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備，高耐磨性，東莞氣相沉積設(shè)備，化學(xué)穩(wěn)定性，韌性和剛度。此外，PVD還能夠生產(chǎn)具有優(yōu)異附著力，均勻?qū)?，設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)，漸變特性，可控形態(tài)，材料和特性的高度多樣性的涂層。

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