1.設備簡介
該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內(nèi)Zui優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。
該設備標配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源（用于濺射金屬導電材料），1臺300W全自動匹配射頻濺射電源（用于濺射絕緣材料），主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。
2.主要技術參數(shù)
2.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼材質，氬弧焊接；
2.2 樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調，旋轉：0-20r/min可調；可加熱至600℃；
2.3 真空系統(tǒng)：機械泵（TRP-12,3L/S）+脂潤滑分子泵(FF-63/80,70L/s)；GDC-25b電磁擋板閥，DN63mm 限流閥；
2.4 極限真空：8.0×10-5Pa；
2.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 20min；
2.6 真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa；
2.7 磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；
2.8 濺射電源：1臺500W直流濺射電源和1臺300W全自動匹配射頻電源；
2.9 質量流量計：進口20sccm、50sccm質量流量控制器各一套；
2.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能；
2.11設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF40及1個CF35法蘭接口；
2.12 設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；
2.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設備相關需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水；
ALD，PE-ALD，PE-CVD，ALD/MO源瓶
技術推廣；組織文化藝術交流活動（不含演出及棋牌娛樂）；銷售電氣機械、通用設備、專用設備、電子產(chǎn)品；委托加工；維修家用電器、儀器儀表。（依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后依批準的內(nèi)容開展經(jīng)營活動。）
北京維意真空技術應用有限責任公司，原名北京科立方真空技術應用有限公司，創(chuàng)立于2013年，位于中國·首都北京密云經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產(chǎn)品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司，公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術工程師和維修技術工程師，具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗，同時還與北京工業(yè)大學聯(lián)合研發(fā)等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)，與北京交通大學聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng)，滿足...