?膜厚范圍?：單次旋涂可獲得0.5-0.8μm的膜厚
?光敏波長?：365nm-400nm近紫外光
?深寬比?：>5:1
?化學穩(wěn)定性?：對溶劑、酸和堿具有高度抵抗力
?熱穩(wěn)定性?：優(yōu)異的熱穩(wěn)定性和機械穩(wěn)定性
?光學特性?：光學透明
?粘度?：200-500毫帕秒(mPa·s)
?曝光能量?：350-400毫焦耳/平方厘米(mJ/cm2)
SU8 2005光刻膠廣泛應用于以下領域：
微流控芯片加工(用于制作SU8光刻膠結構作為PDMS模具)
MEMS芯片制作
光電器件制造
傳感器制造
微納結構加工
芯片絕緣/保護層應用
光學集成電路中的波導制造
顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學試劑、國產試劑、半導體材料、電子專用材料、表面活性劑美國PTI粉塵，日本JIS粉塵德國DMT,KSL 美國AATCC,英國SDC,JAMESH 測試用品HANOVIA 燈管6824F446 UV燈
主營業(yè)務：顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學試劑、國產試劑、半導體材料、電子專用材料、銳材表面活性劑 美國PTI粉塵，日本JIS粉塵，德國DMT粉塵，美國AATCC測試用，英國SDC,JAMESH,日本測試用品，理美國PTI公司雜質顆粒尺寸分析試驗、檢測設備及各種試驗粉塵。代理德國DMT公司的符合IEC 60312標準的試驗粉塵。 同時，公司還代理進口日本JIS標準試驗粉塵。 滿足國內汽車零部件、纖，電子等行業(yè)企業(yè)的實驗...