SU-8 10系列光刻膠半導(dǎo)體材料電子專用材料進(jìn)口光刻膠-宮中文版全集_男人禁欲不能超過多久
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- 品牌
- 進(jìn)口
- 產(chǎn)地
- 美國(guó)
- 型號(hào)
- 10
| 厚度范圍 | 1μm至300μm(單次旋涂)，層壓可達(dá)1mm以上 |
| 深寬比 | 紫外光源下10:1，X射線光源下100:1 |
| 透光性 | 360nm以上透明度，相對(duì)較低的折射率 |
| 熱穩(wěn)定性 | 可耐受高溫工藝條件 |
| 化學(xué)穩(wěn)定性 | 抗多種化學(xué)腐蝕 |
?勻膠工藝?：控制膠厚在120-340μm，勻膠轉(zhuǎn)速為700r/min(5s)，按400r/min加速度增加轉(zhuǎn)速到2000r/min并保持15s，按500r/min的加速度降速至零
?烘烤條件?：恒溫對(duì)流烘箱中進(jìn)行前后烘
?顯影工藝?：采用超聲清洗設(shè)備改造的顯影裝置，振動(dòng)頻率33kHz，超聲功率0-100W可調(diào)
SU-8 10系列光刻膠在半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用：
?MEMS器件制造?：用于制造加速度計(jì)、陀螺儀等傳感器，特別適合高深寬比結(jié)構(gòu)的加工
?微流控芯片?：用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片，可制作復(fù)雜微通道結(jié)構(gòu)
?電鍍模具?：可直接作為絕緣體使用，制作高精度電鍍模具
?光學(xué)元件?：用于制造光柵、透鏡等微光學(xué)元件，利用其優(yōu)異的光學(xué)特性
?3D集成電路?：適用于硅通孔(TSV)等先進(jìn)封裝工藝
光刻膠 , 美國(guó)光刻膠 , 進(jìn)口光刻膠 , 試驗(yàn)光刻膠 , 正性光刻膠
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主營(yíng)業(yè)務(wù)：顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲(chǔ)存、化學(xué)試劑、國(guó)產(chǎn)試劑、半導(dǎo)體材料、電子專用材料、銳材表面活性劑 美國(guó)PTI粉塵，日本JIS粉塵，德國(guó)DMT粉塵，美國(guó)AATCC測(cè)試用，英國(guó)SDC,JAMESH,日本測(cè)試用品，理美國(guó)PTI公司雜質(zhì)顆粒尺寸分析試驗(yàn)、檢測(cè)設(shè)備及各種試驗(yàn)粉塵。代理德國(guó)DMT公司的符合IEC 60312標(biāo)準(zhǔn)的試驗(yàn)粉塵。 同時(shí)，公司還代理進(jìn)口日本JIS標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)粉塵。 滿足國(guó)內(nèi)汽車零部件、纖，電子等行業(yè)企業(yè)的實(shí)驗(yàn)...