增加束流時,高壓沒有指示
在正常工作時,主開關電路中的開關管處于飽和導通狀態(tài),管壓降保持在100V左右,柵極得到正偏壓50V,高壓指示6kV(或10kV)。從檢測電路R21上得到的電壓控制信號不足以使D13穩(wěn)壓管擊穿導通,BG14、BG15、BG16處于截止狀態(tài),而BG11、BG12、BG13處于導通狀態(tài),由BG11輸出
一個2.5V左右的高電位,參見圖3。
柵壓切換電路上的BG10得到2.5V的電壓控制信號而處于導通狀態(tài),參見圖4,使得BG9的基極電位變?yōu)?電位而截止,主開關管通過D6、D7得到正向50V偏置的電壓。同時BG7、BG8也
處于導通狀態(tài),D8穩(wěn)壓管擊穿導通,提供主開關管柵極恒定的電流。由于BG10處于導通狀態(tài),使得簾柵控制電路的BG4的基極處在0電位而截止,參見圖5,簾柵壓的大小受高壓分壓器信號UR2的控制。當UR2<UD2時,輸出的簾柵壓的大小是隨UR2的變化而變化。
蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于:1?;牧吓c靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率,速率4. 真空度5. 鍍膜時間,厚度大小。
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佛山市佛欣真空技術(設備)有限公司.始立于2000年,由董事長武文全先生創(chuàng)辦。武文全先生自1990年起從事真空技術行業(yè),曾榮獲“國家科技進步獎”,擁有20多年真空技術經驗。公司專注于各類鍍膜設備制造,主要有:foxin-ip磁控離子濺射真空鍍膜機、foxin-pvd 多弧離子濺射真空鍍膜機、foxin-tg 多弧離子真空鍍膜機、foxin-gd 超長高度多弧離子真空鍍膜機、foxin-zj 超大直徑多弧離子真空鍍膜機等,設備廣泛的應用...