FX-PVD系列佛欣多弧離子鍍膜利用離子鍍技術可以在金屬、合金、導電材料，甚至非導電材料基體上進行鍍膜。廣泛適用于不銹鋼展架，不銹鋼散件，門花，花灑，把手，水暖五金，精細模具，刀具，鉆頭等，離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金模、化合物膜；既可鍍單一膜層，也可鍍復合膜層，還可以鍍梯度膜層和納米多層鍍層。采用不同的膜材、不同的反應氣體以及不同的工藝方法和參數(shù)，可以獲得表面強化的硬質耐磨鍍層、致密且化學性質穩(wěn)定的耐蝕鍍層、固體潤滑鍍層、特殊功能鍍層。常用膜系包括TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等，此外，還有更堅硬的類金剛石（DLC）、TiB2和碳氮（CNx）膜。裝飾鍍膜可鍍膜200多種顏色，常用有鈦金，玫瑰金，香檳金，日本金，炫銀，寶石蘭，玫瑰紅，等各種高亮度顏色等?？筛鶕?jù)用戶要求設計制造非標設備。
蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜組分均勻性：

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1。晶格匹配度2?；瑴囟?。蒸發(fā)速率濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差（因為是脈沖濺射），晶向（外沿）生長的控制也比較一般。

 

 

真空鍍膜機器廠家-佛欣真空設備有限公司自1990年起從事真空技術行業(yè)，擁有20多年真空技術經驗，曾榮獲“國家科技進步獎”。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且Zui終沉積在基片表面，經歷成膜過程，Zui終形成薄膜。