光學鍍膜氧化鉻顆粒

光學鍍膜氧化鉻顆粒

光學鍍膜氧化鉻顆粒Cr?O?

純度：≥99.95% 99.99%

常用規(guī)格：1-5mm 3-6mm

類型：燒結（綠色/黑色）

產品及公司優(yōu)勢

高純，高折射率，高附著率，膜層性能出色，品控嚴格，質量穩(wěn)定，供貨及時?？筛鶕?jù)客戶要求定制。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準提純，支持各種靶材材料定制開發(fā)，純度達99.99%-99.999%。

在生產高純金屬顆粒、合金顆粒、化合物顆粒上占有優(yōu)勢，通過SPS快速燒結，純度高達5N，交付迅速，滿足科研實驗、半導體高端制造的嚴苛要求，同步提供靶材實驗服務，7-15天快速交付，加速客戶產品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質。

系列產品

金屬靶、陶瓷靶、高熵合金靶、二元/三元/多元合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、氟化物顆粒、氧化物顆粒、氮化物顆粒、碳化物顆粒、靶材高純坯料、靶材用噴涂粉等。

產品應用

光學鍍膜：太陽能選擇性吸收涂層、紅外反射鏡、防反射膜等

電子與半導體器件：電阻薄膜、電容介質層、透明導電氧化物（TCO）基底

耐磨與防護涂層：刀具、模具、機械部件、航空發(fā)動機葉片等

裝飾與功能性涂層：手表、珠寶、電子產品外殼

技術參數(shù)

品名純度規(guī)格類型密度g/m3折射率透光范圍 μm蒸發(fā)溫度 ℃蒸發(fā)源應用氧化鉻顆粒Cr?O?≥99.95%1-5mm燒結（綠色/黑色）5.212.4/-2000E裝飾膜