高純?nèi)趸F顆粒

高純?nèi)趸F顆粒Fe?O?

純度：≥99.9%

常用規(guī)格：1-5mm 3-6mm

類型：燒結（紅褐色）

產(chǎn)品及公司優(yōu)勢

高純，高折射率，高附著率，膜層性能出色，品控嚴格，質(zhì)量穩(wěn)定，供貨及時?？筛鶕?jù)客戶要求定制。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準提純，支持各種靶材材料定制開發(fā)，純度達99.99%-99.999%。

在生產(chǎn)高純金屬顆粒、合金顆粒、化合物顆粒上占有優(yōu)勢，通過SPS快速燒結，純度高達5N，交付迅速，滿足科研實驗、半導體高端制造的嚴苛要求，同步提供靶材實驗服務，7-15天快速交付，加速客戶產(chǎn)品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質(zhì)。

系列產(chǎn)品

金屬靶、陶瓷靶、高熵合金靶、二元/三元/多元合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、氟化物顆粒、氧化物顆粒、氮化物顆粒、碳化物顆粒、靶材高純坯料、靶材用噴涂粉等。

產(chǎn)品應用

磁性薄膜與器件：磁存儲介質(zhì)、自旋電子學

光學涂層：選擇性吸收膜、干涉濾光片

催化與氣體傳感：光催化降解、氣體傳感器

適用于電子束蒸發(fā)工藝

技術參數(shù)