熱障涂層用氧化釔靶

熱障涂層用氧化釔靶

純度：99.99% 99.999%

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

密度：≥98%

顏色：白/灰

產品及公司優(yōu)勢

在生產陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢，通過SPS燒結工藝，純度高達5N，晶?？煽?，小靶材日產能＞25塊，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實驗、半導體芯片高端制造的嚴苛要求，同步提供靶材實驗服務，7-15天快速交付，加速客戶產品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達99.99%-99.999%。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質。

系列產品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料，靶材用噴涂粉等。

產品應用

適用于電子束蒸發(fā)/離子輔助沉積（IAD）工藝：光學鍍膜（紅外光學窗口、激光鏡片、紫外截止濾光片）

原子層沉積（ALD）/磁控濺射：半導體器件（高k介電層、阻變存儲器、硅基外延緩沖層）

電子束物理氣相沉積（EB-PVD）：熱障涂層（TBCs）（航空發(fā)動機渦輪葉片防護、高溫傳感器保護層）

脈沖激光沉積（PLD）：固體電解質

產品成分產品成分

產品成分