激光鏡片氧化鉭靶（低吸收損耗級(jí)）

激光鏡片氧化鉭靶（低吸收損耗級(jí)）

純度：99.99% 99.999%

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

密度：≥99%

顏色：白/黑

產(chǎn)品及公司優(yōu)勢(shì)

在生產(chǎn)陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢(shì)，通過(guò)SPS燒結(jié)工藝，純度高達(dá)5N，晶?？煽?，小靶材日產(chǎn)能＞25塊，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實(shí)驗(yàn)、半導(dǎo)體芯片高端制造的嚴(yán)苛要求，同步提供靶材實(shí)驗(yàn)服務(wù)，7-15天快速交付，加速客戶產(chǎn)品迭代與性能驗(yàn)證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實(shí)現(xiàn)高熔點(diǎn)金屬的精準(zhǔn)提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達(dá)99.99%-99.999%。

檢測(cè)中心配備日本日立掃描電鏡（5萬(wàn)倍）、ICP光譜儀等檢測(cè)設(shè)備，對(duì)材料成分、晶粒度、致密度等20余項(xiàng)指標(biāo)全流程監(jiān)控，嚴(yán)格把控品質(zhì)。

系列產(chǎn)品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料，靶材用噴涂粉等。

產(chǎn)品應(yīng)用

適用于電子束蒸發(fā)/反應(yīng)磁控濺射工藝：光學(xué)鍍膜：高折射率鍍膜（如增透膜、激光鏡片）；干涉濾光片、光波導(dǎo)器件

原子層沉積（ALD）/射頻濺射（RF）：半導(dǎo)體器件：高k介電層（如MIM電容器、柵極介質(zhì)）；存儲(chǔ)器件（DRAM電容介質(zhì)）

低溫濺射：耐腐蝕與防護(hù)涂層：化工設(shè)備防腐涂層；生物醫(yī)學(xué)植入體表面改性

脈沖激光沉積（PLD）：固態(tài)電解質(zhì)（如氧離子導(dǎo)體）；光催化材料（需摻雜改性）

濺射/噴霧熱解：能源材料

產(chǎn)品成分產(chǎn)品成分

產(chǎn)品成分