任意成分比例定制CrAlSi三元合金靶

任意成分比例定制CrAlSi三元合金靶

成分比例：任意成分定制

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

產(chǎn)品及公司優(yōu)勢

高溫?zé)Y(jié)、純度高、致密度高、晶粒細(xì)小、光潔度高、濺射均勻、尺寸靈活、任意成分定制、品控嚴(yán)格、交期迅速

在生產(chǎn)陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢，通過SPS高溫?zé)Y(jié)，純度高達(dá)5N，晶粒可控，小靶材日產(chǎn)能＞25塊，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實(shí)驗(yàn)、半導(dǎo)體芯片高端制造的嚴(yán)苛要求，同步提供靶材實(shí)驗(yàn)服務(wù)，7-15天快速交付，加速客戶產(chǎn)品迭代與性能驗(yàn)證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實(shí)現(xiàn)高熔點(diǎn)金屬的精準(zhǔn)提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達(dá)99.99%-99.999%。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設(shè)備，對(duì)材料成分、晶粒度、致密度等20余項(xiàng)指標(biāo)全流程監(jiān)控，嚴(yán)格把控品質(zhì)。

系列產(chǎn)品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料，靶材用噴涂粉等。

產(chǎn)品應(yīng)用

適用工藝：磁控濺射、電弧離子鍍、電子束蒸發(fā)沉積

高溫防護(hù)涂層應(yīng)用：渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、燃燒室等高溫部件、燃?xì)廨啓C(jī)

半導(dǎo)體與電子工業(yè)：集成電路（IC）擴(kuò)散阻擋層、薄膜電阻與傳感器

耐磨與硬質(zhì)涂層：切削工具/模具、汽車零部件

光學(xué)與功能薄膜：太陽能選擇性吸收涂層、顯示技術(shù)

核工業(yè)：反應(yīng)堆材料

產(chǎn)品成分產(chǎn)品成分

產(chǎn)品成分