光學鍍膜用CrAlSi三元合金靶

光學鍍膜用CrAlSi三元合金靶

成分比例：任意成分定制

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

產品及公司優(yōu)勢

高溫燒結、純度高、致密度高、晶粒細小、光潔度高、濺射均勻、尺寸靈活、任意成分定制、品控嚴格、交期迅速

在生產陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢，通過SPS高溫燒結，純度高達5N，晶?？煽兀“胁娜债a能＞25塊，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實驗、半導體芯片高端制造的嚴苛要求，同步提供靶材實驗服務，7-15天快速交付，加速客戶產品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達99.99%-99.999%。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質。

系列產品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料，靶材用噴涂粉等。

產品應用

適用工藝：磁控濺射、電弧離子鍍、電子束蒸發(fā)沉積

高溫防護涂層應用：渦輪發(fā)動機葉片、燃燒室等高溫部件、燃氣輪機

半導體與電子工業(yè)：集成電路（IC）擴散阻擋層、薄膜電阻與傳感器

耐磨與硬質涂層：切削工具/模具、汽車零部件

光學與功能薄膜：太陽能選擇性吸收涂層、顯示技術

核工業(yè)：反應堆材料

產品成分產品成分

產品成分