PIS系列純離子鍍膜設(shè)備(如圖)是集純離子鍍膜技術(shù)(PIC)、高能離子束清洗技術(shù)(IONBEAM)和磁控濺射技術(shù)(SPUTTER)三種技術(shù)融合于一體，其獨(dú)有的純離子鍍膜源技術(shù)，利用高效的電磁過濾系統(tǒng)和電磁掃描系統(tǒng)有效過濾掉中性粒子、大顆粒離子團(tuán)等雜質(zhì)，大幅度提高等離子束流純度，使膜層更加致密，硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性也更優(yōu)異?？梢藻冎坪穸确秶鷱膸装偌{米到二十多微米的超級(jí)類金剛石Ta-C膜層。

PIS系列設(shè)備采用高效的電磁過濾器，可以有效過濾顆粒及雜質(zhì)，創(chuàng)新設(shè)計(jì)的弧源，應(yīng)用了新的技術(shù)突破確?；≡撮L期穩(wěn)定工作;

采用純離子低溫鍍膜工藝，鍍膜過程控制在150°C以下，可避免熱應(yīng)力和基材變形;制備的Ta-C膜層中金剛石相(SP3鍵)可以達(dá)到75%以上的，其物理化學(xué)性質(zhì)和金剛石極其類似，薄膜具有極高的硬度>5000HV(>50GPa),極低的摩擦系數(shù)(<0.1)，光學(xué)透明度等一系列優(yōu)異特征，可大幅度提高涂層產(chǎn)品使用壽命;

制備的Ta-C膜層擁有良好的抗砂石、抗結(jié)冰、抗粘連、抗腐蝕能力，有利于零部件在惡劣環(huán)境下長期服役;全自動(dòng)智能化工藝操作系統(tǒng)，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調(diào)用能力，配備實(shí)時(shí)工藝參數(shù)監(jiān)控系統(tǒng)，允許工程師在線控制。

全自動(dòng)智能化工藝操作系統(tǒng)，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調(diào)用能力，配備實(shí)時(shí)工藝參數(shù)監(jiān)控系統(tǒng)，允許工程師在線控制。