科研實(shí)驗專用硫化亞銅靶材Cu2S磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料
產(chǎn)品介紹
硫化亞銅(Cu2S)呈黑色或灰黑色,在自然界以輝銅礦(也稱輝鐵礦)形式存在;硬而脆,導(dǎo)電,有毒;對熱穩(wěn)定,不溶于水、丙酮、硫化銨、稀硫酸和稀鹽酸;在硝酸和熱濃硫酸中分解,跟硝酸反應(yīng)生成硝酸銅、硫和一氧化氮;在隔絕空氣下加熱生成銅和硫化銅,在空氣存在下生成氧化銅、硫酸銅和二氧化硫。用作制防污涂料、固體潤滑劑、催化劑、太陽電池等。
產(chǎn)品參數(shù)
中文名 硫化亞銅 化學(xué)式 Cu2S
分子量159.158 密度5.6g/ml
熔點(diǎn) 1100℃ 純度99.9%
支持合金靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會盡快為您報價?。?nbsp;
服務(wù)項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊睿|(zhì)量保證,售后無憂!
產(chǎn)品附件:發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
質(zhì)量控制:嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度;可提供質(zhì)檢報告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差,連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!
我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。
注意:高純銦的熔點(diǎn)約為156℃,靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會導(dǎo)致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!
建議:陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2
靶材,金屬靶材,陶瓷靶材,非金屬靶材
技術(shù)推廣;技術(shù)開發(fā);技術(shù)咨詢;技術(shù)轉(zhuǎn)讓;銷售金屬材料、金屬礦石、非金屬礦石。(企業(yè)依法自主選擇經(jīng)營項目,開展經(jīng)營活動;依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目,經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后依批準(zhǔn)的內(nèi)容開展經(jīng)營活動;不得從事本區(qū)產(chǎn)業(yè)政策禁止和限制類項目的經(jīng)營活動。)
北京晶邁中科材料技術(shù)有限公司坐落于北京通州區(qū)創(chuàng)建于2016年,是國內(nèi)有色金屬行業(yè)綜合性研究開發(fā)公司。 現(xiàn)有員工100余人。我公司光學(xué)鍍膜材料中心以國內(nèi)領(lǐng)先的技術(shù),多年來一直專業(yè)從事光學(xué)鍍膜材料及濺射靶材的研發(fā)與生產(chǎn)。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復(fù)合物、金屬及合金等,也可根據(jù)您的要求量身定做。通過嚴(yán)格控制生產(chǎn)、并持續(xù)改進(jìn)、穩(wěn)步發(fā)展,致力為客戶提供最優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品。 公司現(xiàn)有靶材熱壓爐;真空蒸餾裝...