光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料?；逋ǔＪ歉呒兌龋头瓷渎?，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。應(yīng)用于芯片制造的光掩膜為高敏感度的鉻版。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。(順便提一下，通常講的菲林即film，底片或膠片的意思，感光為微小晶體顆粒)。

在刻畫時(shí)，采用步進(jìn)機(jī)刻畫(stepper)，其中有電子束和激光之分，激光束直接在涂有鉻層的4-9“玻璃板上刻畫，邊緣起點(diǎn)5mm，與電子束相比，其弧形更逼真，線寬與間距更小。光掩膜有掩膜原版(reticlemask，也有稱為中間掩膜，reticle作為單位譯為光柵)，用步進(jìn)機(jī)重復(fù)將比例縮小到mastermaks上，應(yīng)用到實(shí)際曝光中的為工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask復(fù)制過來。