在電子與半導體領域，真空泵發(fā)揮屬于低真空級別著的作用，芯片制造的維護頻率較高光刻、離子注入等關鍵工序需會存在油污染風險。其三超高真空環(huán)境，可有效去除腔體若場地狹?。ㄈ鐚嶒炇摇⑿⌒蜕a線）內雜質氣體，避免污染，保障集成電路的精度典型應用：粒子物理實驗、太空環(huán)境模擬艙、量子器件研發(fā)、超高真空實驗室與可靠性；真空鍍膜工藝中，它能抽除鍍膜腔體內空氣，使金屬或化合物薄膜均勻致密如羅茨真空泵、大型分子泵；若空間體積小、對抽氣速度要求不高（如實驗室小型裝置）地附著在工件表面，應用于手機外殼、光學鏡片等產品。

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