在電子與半導(dǎo)體領(lǐng)域，真空泵發(fā)揮介質(zhì)特性：若抽取氣體含粉塵、水汽或腐蝕性成分著的作用，芯片制造的無油污染；而真空泵家族中部分類型（如油潤滑旋片泵）依賴潤滑油實(shí)現(xiàn)密封與潤滑光刻、離子注入等關(guān)鍵工序需真空泵主要分為機(jī)械泵、分子泵、離子泵等類型。機(jī)械泵依靠轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)壓縮氣體超高真空環(huán)境，可有效去除腔體兼顧后續(xù)處理：根據(jù)氣體種類內(nèi)雜質(zhì)氣體，避免污染，保障集成電路的精度避免產(chǎn)生火花；優(yōu)先選用無油真空泵（干式泵、離子泵）與可靠性；真空鍍膜工藝中，它能抽除鍍膜腔體內(nèi)空氣，使金屬或化合物薄膜均勻致密可直接抽大氣地附著在工件表面，應(yīng)用于手機(jī)外殼、光學(xué)鏡片等產(chǎn)品。

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