高純二氧化碳在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域扮演重要角色，多用于晶圓氧化、CVD 化學(xué)氣相沉積、超臨界清洗等關(guān)鍵制程。電子級(jí)超高純CO?，一般選用 5N及以上等級(jí)，對(duì)金屬離子、顆粒物、碳?xì)浠衔锕芸貥O其嚴(yán)格。在氧化工藝中，CO?提供氧源，在硅片表面生成氧化層；超臨界二氧化碳利用特殊流體特性，可對(duì)晶圓進(jìn)行精細(xì)清洗，有效去除光刻膠殘留與微小顆粒，減少傳統(tǒng)濕法清洗帶來的水資源消耗與化學(xué)品污染。微量烴類、金屬雜質(zhì)附著在晶圓表面，會(huì)造成器件漏電、良率下降。輸送管路需要電解拋光不銹鋼材質(zhì)，全程高純管路吹掃，防止管壁析出雜質(zhì)。半導(dǎo)體產(chǎn)線對(duì)氣體批次穩(wěn)定性要求高，每一批次高純CO?都需要配套完整檢測(cè)報(bào)告用于工藝追溯。

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取樣方式：采樣員上門取樣/自行取樣

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