電子級甲基異丁基甲酮（MIBK）——半導(dǎo)體濕法刻蝕中的“常規(guī)選項”

甲基異丁基甲酮（MIBK）在半導(dǎo)體制造中是一種較為常見的溶劑，主要用于光刻膠稀釋、硅片表面有機沾污的去除以及在MEMS器件制造中的犧牲層光刻膠溶解。其適中的揮發(fā)速率和對多種聚合物的良好溶解性使其成為濕法工藝中的“常規(guī)選項”。山東安達化工電子級MIBK的純度≥99.5%，水分≤0.03%，酸度（以乙酸計）≤0.005%，不揮發(fā)物≤5ppm。

在MEMS器件的犧牲層釋放工藝中，MIBK用于溶解光刻膠犧牲層，釋放可動結(jié)構(gòu)。該應(yīng)用對溶劑的純度和顆粒物含量要求較高——殘留顆粒可能導(dǎo)致微懸臂梁結(jié)構(gòu)的黏附失效。山東安達化工的MIBK產(chǎn)品經(jīng)過三級過濾（1μm→0.45μm→0.2μm），在千級潔凈室條件下灌裝，顆粒物（≥0.5μm）≤50個/mL。

在產(chǎn)品儲存方面，MIBK需避光存放以防止過氧化物生成。山東安達化工在不銹鋼桶包裝內(nèi)充填高純氮氣并添加微量（≤10ppm）的BHT穩(wěn)定劑，有效延長產(chǎn)品安全存儲期限?？蛻粲刑厥夥€(wěn)定劑添加要求時，可提前與銷售技術(shù)人員溝通。