高純乙二醇——半導體CMP漿料和冷卻液中的“穩(wěn)定基石”

在半導體制造中，乙二醇并不直接參與光刻或刻蝕反應(yīng)，但它在CMP漿料的配制、晶圓切割冷卻液和空調(diào)系統(tǒng)載冷劑中發(fā)揮著buketidai的穩(wěn)定作用。山東安達化工電子級乙二醇的純度≥99.9%，水分≤0.05%，酸度（以乙酸計）≤0.005%，氯離子≤1ppm，鐵離子≤0.5ppm。

CMP漿料中微量的金屬離子和氯離子可能在拋光過程中吸附于晶圓表面，導致器件電性能退化。山東安達化工采用離子交換樹脂吸附法將總金屬離子控制在5ppm以內(nèi)，氯離子通過陰離子交換柱脫除至1ppm以下。產(chǎn)品經(jīng)0.2μm濾芯過濾后灌裝，在潔凈灌裝區(qū)內(nèi)完成，確保顆粒物指標滿足CMP漿料配制要求。

在12英寸硅片線切割冷卻液中，乙二醇與水按一定比例復配后，其良好的導熱性能和較低的冰點可以有效控制切割區(qū)域的溫升。山東安達化工可根據(jù)客戶冷卻液配方需求提供乙二醇含量≥99.95%的超純規(guī)格。