IBS(Innovative Ion Implant)MAXion 是面向 100mm/150mm/200mm硅片摻雜工藝的量產(chǎn)型大電流離子注入設(shè)備,擁有成熟量產(chǎn)驗證架構(gòu),設(shè)備技術(shù)與現(xiàn)有產(chǎn)線設(shè)備通用,可降低操作人員、維護人員跨崗培訓(xùn)成本。
MAXion整機設(shè)備
Zui大束流參數(shù)
磷離子 P?、砷離子 As?:Zui高 22mA
硼離子 B?:Zui高 14mA
富集二 BF??:Zui高 7.5mA
不同能量下束流上限能量分 40keV、120keV、200keV三檔,P/As/B/BF?束流隨能量變化有對應(yīng)上限,120keV 為多數(shù)離子束流峰值區(qū)間。
摻雜源供給
機身標(biāo)配 4 個摻雜源位,可放置有毒摻雜材料;額外配備氬氣等惰性氣體供氣通道
汽化器分標(biāo)準(zhǔn)溫區(qū)(適配 P、As 等常規(guī)原料)與低溫快冷溫區(qū)(適配 SbF?、AlCl?等特殊原料)
摻雜元素覆蓋元素周期表中藍色標(biāo)注元素可直接使用,橙色稀土 /特殊金屬需單獨對接廠商,覆蓋絕大多數(shù)半導(dǎo)體摻雜所需元素。
可摻雜元素周期表
多尺寸兼容配套切換套件,可快速切換適配 4 英寸 (100mm)、6 英寸 (150mm)、8 英寸 (200mm)硅片,支持混線生產(chǎn)。
吞吐量數(shù)據(jù)
表格
晶圓規(guī)格批次容量每小時Zui大產(chǎn)能2e15 劑量下每小時產(chǎn)能| 4/6 英寸 | 25 片 | 290 片 | 225 片 |
| 8 英寸 | 17 片 | 230 片 | 165 片 |
劑量控制
劑量區(qū)間:5×1011 ~ 1×101? 原子 / 平方厘米
片內(nèi)不均勻度:<0.5%
片間重復(fù)性:<0.75%
金屬污染控制
鋁污染:<3×1011 原子 / 平方厘米
鈦、鉻、鐵、銅、鎢等其他金屬污染:<6×101? 原子 / 平方厘米
占地面積尺寸:5.2m × 3.7m × 2.4m
四探針及四探針探頭,電子束曝光機,步進式光刻機,接觸式光刻機,深硅刻蝕機,磁控濺射機,原子力顯微鏡
一般項目:技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣;信息咨詢服務(wù)(不含許可類信息咨詢服務(wù));機械設(shè)備銷售;電子元器件與機電組件設(shè)備銷售。(除依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目外,憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動)
上海墾芯電子科技有限公司是專注于高端半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域的技術(shù)服務(wù)型企業(yè),致力于為全球客戶(亞洲、中東、歐洲)提供一體化產(chǎn)業(yè)支持,涵蓋平臺建設(shè)方案、工藝解決方案、代工服務(wù)和配套耗材。以“工藝賦能創(chuàng)新,服務(wù)驅(qū)動價值”為宗旨,通過整合全球優(yōu)質(zhì)設(shè)備資源和自主研發(fā)能力,推動客戶從研發(fā)試制到規(guī)?;a(chǎn)的高效落地。憑借對細(xì)分領(lǐng)域工藝需求的深刻理解,公司構(gòu)建了全流程工藝設(shè)備體系,確保精準(zhǔn)適配不同制造場景的需求。...