高純銅 HPCu-2 (GB/T 11086-2013) 超薄帶材｜低雜質(zhì)?高表面?光學(xué)儀器專用

HPCu-2（6N 級(jí)高純銅，GB/T 11086-2013）是一種純度≥99.9999%、總雜質(zhì)≤1ppm的超高純銅材料，專為光學(xué)儀器、精密光學(xué)反射件、真空光學(xué)部件、高端電子光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，具備純凈、超高導(dǎo)電導(dǎo)熱、鏡面級(jí)高表面、超薄易成型、組織致密無(wú)缺陷等核心優(yōu)勢(shì)，完全符合國(guó)標(biāo)GB/T 11086-2013 高純銅技術(shù)規(guī)范，是光學(xué)精密器件的高純銅帶材。

一、標(biāo)準(zhǔn)體系與牌號(hào)定義（國(guó)標(biāo) GB/T 11086-2013）

國(guó)標(biāo)牌號(hào)：HPCu-2（GB/T 11086-2013《高純銅》）

純度等級(jí)：6N 級(jí)（99.9999%）

標(biāo)準(zhǔn)定位：國(guó)標(biāo)規(guī)定的超高純銅牌號(hào)，用于光學(xué)、半導(dǎo)體、真空電子、精密儀器等純度要求場(chǎng)景

替代對(duì)照：對(duì)應(yīng)國(guó)際6N Cu、OF-Cu-HP、Cu-99.9999

執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：

化學(xué)成分：GB/T 11086-2013（高純銅 36 種雜質(zhì)嚴(yán)格控制）

帶材規(guī)范：GB/T 2040、GB/T 5231（超薄高精銅帶）

表面質(zhì)量：光學(xué)級(jí)表面標(biāo)準(zhǔn)（GB/T 12767）

二、核心化學(xué)成分（6N 高純?低雜質(zhì)）HPCu-2（GB/T 11086-2013）

銅（Cu）：≥99.9999%（6N）（基體純度保障光學(xué) /電學(xué)性能）

總雜質(zhì)含量：≤0.0001%（1 ppm）（國(guó)標(biāo)嚴(yán)格控制）

關(guān)鍵單雜質(zhì)上限（ppb 級(jí)）：

Fe、Ni、Pb、Sn、Zn、As、Sb、Bi：≤10 ppb

O（氧）：≤5 ppm（無(wú)氧級(jí)，防氧化、防氫脆、保表面光亮）

S、P、C、N：≤1 ppb（極低非金屬夾雜，無(wú)表面缺陷）

其余 30 余種痕量元素：≤1 ppb（GDMS 質(zhì)譜全元素檢測(cè)）

密度：8.96 g/cm3

熔點(diǎn)：1083°C

晶體結(jié)構(gòu)：完全單晶 / 孿晶組織、無(wú)晶界偏析、無(wú)夾雜

三、核心性能（光學(xué)儀器?超薄?高表面）1. 純度與低雜質(zhì)（光學(xué)核心）

無(wú)雜質(zhì)偏析：6N高純組織均勻無(wú)夾雜、無(wú)第二相粒子，避免光學(xué)散射、表面麻點(diǎn)、針孔

無(wú)氧特性：氧≤5 ppm，高溫 /真空環(huán)境不氧化、不變色、不產(chǎn)生氧化膜缺陷，長(zhǎng)期保持鏡面光澤

穩(wěn)定性：-269°C~400°C寬溫域組織穩(wěn)定、無(wú)相變、無(wú)應(yīng)力釋放，光學(xué)精度無(wú)漂移

2. 超薄帶材規(guī)格（精密光學(xué)成型）

厚度范圍：0.02~0.5mm（超?。Ｒ?guī)0.03~0.1mm（光學(xué)件主流）

寬度：5~300mm（可精密分條）

長(zhǎng)度：卷狀 / 定尺，100~1000m /卷

公差：厚度 **±0.001~0.005mm**，寬度**±0.02mm**，平面度≤0.5μm/m（光學(xué)級(jí)高精）

供應(yīng)狀態(tài)：軟態(tài)（M/O）、超軟態(tài)（退火態(tài)）（高塑性、易沖壓 / 折彎 /旋壓）

3. 鏡面級(jí)高表面質(zhì)量（光學(xué)專用）

表面粗糙度 Ra：≤0.02~0.05μm（鏡面級(jí)，光學(xué)反射無(wú)散射）

表面狀態(tài)：光亮退火B(yǎng)A、精密拋光、無(wú)油無(wú)污、無(wú)劃痕、無(wú)麻點(diǎn)、無(wú)氧化色

表面缺陷：零針孔、零夾雜、零起皮、零色差（光學(xué)級(jí)全檢）

優(yōu)勢(shì)：直接用于光學(xué)反射面、無(wú)需二次拋光，大幅降低光學(xué)件加工成本

4. 導(dǎo)電導(dǎo)熱性能（光學(xué)電子兼容）

導(dǎo)電率：≥101%IACS（超純高導(dǎo)，優(yōu)于普通無(wú)氧銅）

電阻率：≤1.68μΩ·cm（20°C）（極低信號(hào)損耗）

熱導(dǎo)率：≥401 W/m·K（高效散熱，光學(xué)系統(tǒng)溫控穩(wěn)定）

優(yōu)勢(shì)：光學(xué)反射 + 導(dǎo)電導(dǎo)熱 +結(jié)構(gòu)支撐三合一，適配光電集成光學(xué)儀器

5. 力學(xué)與加工性能（超薄易成型）

抗拉強(qiáng)度（軟態(tài)）：200~240 MPa

延伸率：≥40%（超高塑性，超薄帶折彎 180°無(wú)裂紋）

硬度：35~45 HV（軟態(tài)易加工、CNC 精密成型）

加工性：冷沖壓、深沖、旋壓、蝕刻、精密切割性能優(yōu)異，可成型超薄復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)件

焊接：氬弧焊、釬焊、真空焊無(wú)氣孔、無(wú)氧化、焊縫保持高純與高表面

6. 耐蝕與環(huán)保（光學(xué)長(zhǎng)期可靠）

耐蝕性：大氣、真空、弱腐蝕環(huán)境不生銹、不變色、無(wú)晶間腐蝕

環(huán)保：無(wú)鉛、無(wú)鎘、無(wú)汞，符合RoHS、REACH、真空器件潔凈標(biāo)準(zhǔn)

四、光學(xué)儀器核心應(yīng)用領(lǐng)域

精密光學(xué)反射件

光學(xué)儀器反射鏡、激光反射片、紅外光學(xué)反射件、高精度光學(xué)快門、光闌片

鏡面高表面 + 高純穩(wěn)定，反射率 **≥95%，無(wú)雜質(zhì)散射，光學(xué)精度達(dá)納米級(jí)**

真空光學(xué)與電子光學(xué)部件

質(zhì)譜儀、電子顯微鏡、光譜儀、真空鍍膜機(jī)內(nèi)襯、光學(xué)屏蔽罩、電極組件

6N 高純 + 低出氣率 +無(wú)氧，真空環(huán)境無(wú)揮發(fā)、無(wú)污染、保超高真空度

高端光電集成器件

光通信模塊、激光器件、光電探測(cè)器、光學(xué)傳感器、精密導(dǎo)電光學(xué)墊片

高導(dǎo) + 高表面 + 超薄，信號(hào)傳輸零損耗，光電兼容穩(wěn)定

醫(yī)療與科研光學(xué)儀器

醫(yī)療影像光學(xué)件、高精度測(cè)量?jī)x器、天文光學(xué)組件、實(shí)驗(yàn)室光學(xué)結(jié)構(gòu)件

寬溫穩(wěn)定 + 無(wú)磁 + 高純，保障測(cè)量精度與長(zhǎng)期可靠性

半導(dǎo)體光學(xué)與精密模具

光刻配件、光學(xué)模具、超薄導(dǎo)電墊片、微納光學(xué)結(jié)構(gòu)件

公差 + 高表面 + 無(wú)缺陷，滿足半導(dǎo)體光學(xué)微米 / 納米級(jí)精度

五、HPCu-2 vs 常規(guī)純銅（光學(xué)選型對(duì)比）

HPCu-2（6N 高純銅）：純度99.9999%、雜質(zhì)≤1ppm、Ra≤0.02μm、無(wú)氧≤5ppm、無(wú)缺陷、超高穩(wěn)定 → 光學(xué)儀器 /反射件

無(wú)氧銅（TU1/TU2）：純度 99.97~99.99%、雜質(zhì)高、表面 Ra≈0.1μm、有氧化風(fēng)險(xiǎn)→ 僅適合普通導(dǎo)電件

純銅（T2）：純度 99.90%、雜質(zhì)高、表面差、易氧化 → 不適合光學(xué)場(chǎng)景

鈹銅 / 黃銅：有合金元素、表面差、光學(xué)散射大 → 完全不適用

選型結(jié)論：光學(xué)儀器、超薄高表面、真空高純、精密反射、國(guó)標(biāo) GB/T 11086認(rèn)證 → 必選 HPCu-2 超薄帶材

六、現(xiàn)貨規(guī)格與品質(zhì)保障1. 光學(xué)級(jí)現(xiàn)貨超薄帶材（常備）

厚度：0.03mm、0.05mm、0.08mm、0.1mm、0.15mm、0.2mm、0.3mm、0.5mm

寬度：10mm、20mm、50mm、100mm、150mm、200mm、300mm（可精密分條）

狀態(tài)：軟態(tài)（M）、光亮退火（BA）（光學(xué)專用）

表面：鏡面級(jí)、無(wú)氧化、無(wú)劃痕、全檢合格

2. 國(guó)標(biāo)認(rèn)證與品質(zhì)保證

GB/T 11086-2013 認(rèn)證：提供國(guó)標(biāo)材質(zhì)單、GDMS全元素檢測(cè)報(bào)告

純度保證：6N 級(jí)（≥99.9999%），總雜質(zhì) **≤1ppm**

表面檢測(cè)：光學(xué)顯微鏡全檢，Ra≤0.02~0.05μm，無(wú)缺陷

無(wú)氧檢測(cè)：氧含量≤5ppm，真空質(zhì)譜驗(yàn)證

現(xiàn)貨供應(yīng)：常規(guī)規(guī)格24小時(shí)發(fā)貨，支持小批量、零切、定制分條

加工服務(wù)：精密切割、沖壓、蝕刻、折彎、CNC一站式光學(xué)件定制

七、光學(xué)件加工與使用建議

退火處理：400~500°C真空退火，保持高純、高表面、高塑性

沖壓 / 折彎：** 軟態(tài)（M）** 加工，無(wú)潤(rùn)滑 /真空潤(rùn)滑，避免表面污染

表面保護(hù)：真空包裝、惰性氣體保護(hù)，防氧化、防劃痕、防指紋

裝配：潔凈室裝配、無(wú)磁工具，避免表面損傷與雜質(zhì)污染