芯片光刻工藝中的涂布/顯影設(shè)備（Track）是與光刻機(jī)聯(lián)機(jī)的復(fù)雜系統(tǒng)，其內(nèi)部對局部環(huán)境有極高要求，高效送風(fēng)口的應(yīng)用是其中的關(guān)鍵：1.設(shè)備內(nèi)置的FFU：Track設(shè)備內(nèi)部集成有多個微型風(fēng)機(jī)過濾單元（FFU），本質(zhì)上就是微型的高效送風(fēng)口。它們?yōu)樵O(shè)備內(nèi)部的晶圓傳輸、涂膠、顯影等模塊提供ISO1-2級的超凈局部環(huán)境。2.氣浮與風(fēng)簾：在晶圓傳輸軌道上，由高效送風(fēng)口噴出的潔凈空氣形成“氣浮”軌道，使晶圓非接觸傳輸，避免機(jī)械摩擦產(chǎn)生顆粒。同時，在設(shè)備與光刻機(jī)的接口處，由高效送風(fēng)口形成“風(fēng)簾”，隔離外部環(huán)境。3.溶劑氣氛控制：涂膠和顯影過程會產(chǎn)生大量溶劑蒸氣（如PGMEA），這些蒸氣若凝結(jié)會形成顆粒。內(nèi)置的高效送風(fēng)口提供的層流能快速將溶劑蒸氣帶走，防止其在晶圓表面或設(shè)備內(nèi)部凝結(jié)。4.溫濕度精準(zhǔn)控制：設(shè)備內(nèi)部送風(fēng)需經(jīng)過精密的溫濕度調(diào)節(jié)，以保證光刻膠的性能穩(wěn)定。Track設(shè)備內(nèi)置的FFU/高效送風(fēng)口系統(tǒng)，是實(shí)現(xiàn)在晶圓表面微米級精度圖形化的重要環(huán)境保障。
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