高純氮是純度≥99.999%的無色惰性氣體，分子式N2，臨界溫度-147.05℃，常溫密度1.153kg/m3，液態(tài)密度808.5kg/m3（-195.8℃），廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造中的清洗、刻蝕、沉積環(huán)節(jié)，電真空器件加工及航天液氫系統(tǒng)置換，確保晶圓的純凈度和性能 。

在集成電路、半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作保護氣和運載氣，化學(xué)氣相淀積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體 。顯像管制造中要求氮氣純度為99.99%以上。在航天技術(shù)中，液氫加注系統(tǒng)必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。2025年12月，國家市場監(jiān)管總局批準(zhǔn)發(fā)布高純氮國家標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，用于半導(dǎo)體器件制造中的清洗、刻蝕、沉積等關(guān)鍵環(huán)節(jié)，以及集成電路生產(chǎn)中的光刻、離子注入、氧化等工藝 。