設(shè)備介紹

PEPEIC系列設(shè)備主要是（集）一體化高性能弧源技術(shù)（PEPIC）、高能離子束清洗技術(shù)（IONBEAM）和磁控濺射技術(shù)（SPUTTER）三種技術(shù)融合一體，可適應(yīng)多種鍍膜靶材，無(wú)論金屬、非金屬及各類復(fù)合材料都可以利用此設(shè)備進(jìn)行鍍膜及成膜，膜層具有高致密性、超硬、耐磨損、耐腐蝕等特點(diǎn)。設(shè)備可鍍制各類金屬?gòu)?fù)合物涂層如：TiN、TiCN、TiAlN、CrN；金屬涂層如：Cu、Au、Ag等。設(shè)備具備可編程序控制器（PLC）+人機(jī)界面(HMI)組合電氣控制系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化控制

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設(shè)備優(yōu)勢(shì)

? PEPIC系列設(shè)備采用高效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)，能有效過(guò)濾大顆粒及雜質(zhì)，可制備兼具“功能性”與“裝飾性”的優(yōu)質(zhì)膜層；

? 采用全新的弧源設(shè)計(jì)，應(yīng)用Zui新的電弧技術(shù)，可大幅度提高弧源連續(xù)工作的可靠性，縮短設(shè)備維護(hù)時(shí)間;；

? 可用于制備各類金屬、合金、金屬氮化物涂層，制備的涂層具有硬度高、致密性好、表面光潔度高和耐腐蝕性能優(yōu)越的特點(diǎn)；

? 自主設(shè)計(jì)的智能化工藝操作系統(tǒng)，提供全面、便捷的工藝配方編輯及調(diào)用能力，配備實(shí)時(shí)工藝參數(shù)監(jiān)控系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程在線控制。