鎳鍺合金靶

鎳鍺合金靶

成分比例：Ni??Ge??、Ni??Ge?? ；任意成分定制

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

理論密度與顏色：≥96% 深灰藍色金屬光澤（Ge半導(dǎo)體特性致色）

產(chǎn)品及公司優(yōu)勢

純度高、致密度高、晶粒細小、低孔隙率，濺射均勻、尺寸靈活、任意成分定制、品控嚴格、交期迅速。具有超快相變動力學(xué)、量子限域效應(yīng)、極端紅外透射、自對準硅化物等優(yōu)勢。

在生產(chǎn)陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢，通過快速燒結(jié)工藝，純度高達5N，晶粒可控，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實驗、半導(dǎo)體芯片制造的嚴苛要求，同步提供靶材實驗服務(wù)，7-15天快速交付，加速客戶產(chǎn)品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用全球的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達99.99%-99.999%。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡、ICP光譜儀等檢測設(shè)備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標(biāo)全流程監(jiān)控，嚴格把控品質(zhì)。

系列產(chǎn)品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、三元合金鈀、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料、靶材用噴涂粉等。

產(chǎn)品應(yīng)用

適用工藝：射頻磁控濺射、分子束外延

顛覆性存儲器：超快相變存儲器（PCRAM）；神經(jīng)形態(tài)計算

量子信息技術(shù)：單光子源陣列；拓撲絕緣體器件

深空紅外遮光罩：詹姆斯·韋伯望遠鏡遮光板深空紅外遮光罩：詹姆斯·韋伯望遠鏡遮光板紅外光學(xué)系統(tǒng)：長波紅外增透膜；太赫茲波導(dǎo)

深空紅外遮光罩：詹姆斯·韋伯望遠鏡遮光板

半導(dǎo)體：2D晶體管接觸工程；硅光子學(xué)鍵合層

產(chǎn)品成分產(chǎn)品成分

產(chǎn)品成分