鈷鈀合金靶

成分比例：Co-15Pd、Co-50Pd ；任意成分定制

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

理論密度與顏色：≥99.5% 銀白色金屬光澤，略帶淺灰調(diào)（因鈷的存在）

產(chǎn)品及公司優(yōu)勢

純度高、致密度高、晶粒細小、低孔隙率，濺射均勻、尺寸靈活、任意成分定制、品控嚴格、交期迅速。具有超高垂直磁各向異性(K?)、高飽和磁化強度 (Ms)、可控的有序化溫度、良好的化學穩(wěn)定性、優(yōu)異的薄膜均勻性、與多層結(jié)構(gòu)兼容性。

在生產(chǎn)陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢，通過快速燒結(jié)工藝，純度高達5N，晶粒可控，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實驗、半導體芯片高端制造的嚴苛要求，同步提供靶材實驗服務，7-15天快速交付，加速客戶產(chǎn)品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達99.99%-99.999%。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡、ICP光譜儀等檢測設備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質(zhì)。

系列產(chǎn)品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、三元合金鈀、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料、靶材用噴涂粉等。

產(chǎn)品應用

適用工藝：直流磁控濺射、射頻磁控濺射

硬盤驅(qū)動器 (HDD) 磁性記錄層

下一代磁存儲技術：賽道存儲器 (Racetrack Memory)、磁隨機存儲器 (MRAM)的候選磁性材料（高K?優(yōu)勢）

深空紅外遮光罩：詹姆斯·韋伯望遠鏡遮光板深空紅外遮光罩：詹姆斯·韋伯望遠鏡遮光板高性能磁傳感器：需高靈敏度、高穩(wěn)定性的器件（如航天、醫(yī)療）

深空紅外遮光罩：詹姆斯·韋伯望遠鏡遮光板

(潛在) 裝飾性鍍膜：利用其獨特銀白色和耐磨性（成本高昂，高端應用）

產(chǎn)品成分產(chǎn)品成分

產(chǎn)品成分