光學薄膜制備釩靶坯料

光學薄膜制備釩靶坯料

純度：≥99.9%，可定制

常用規(guī)格：錠/棒Φ120/170/240/300，L≤1600mm; 板L≤1180mm，W≤230mm，T≤22mm;根據客戶要求生產

系列產品

99.9%釩錠、釩板、釩靶、釩管

提供NiCr NiV7/93、Cr、Zr、Ni、Co、Hf等系列高純靶材坯料

產品及公司優(yōu)勢

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現高熔點金屬的精準提純，靶材錠坯純度達99.99%-99.999%，顯著提升靶材成膜均勻性與沉積效率，滿足半導體級靶材的嚴苛要求。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質。

針對客戶需求，提供難熔金屬靶材解決方案，支持超大型錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，并自主研發(fā)SPS真空燒結設備，實現快速燒結（小靶材日產能≥25塊），同步提供靶材實驗服務，7-15天快速交付，加速客戶產品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

產品應用

半導體與微電子領域薄膜制備：集成電路（IC），存儲器件

平板顯示與觸控面板薄膜制備：OLED/LCD顯示，透明導電膜

光學與光電應用薄膜制備：光學鍍膜，太陽能電池

硬質涂層薄膜制備

新能源與催化薄膜制備：鋰/鈉離子電池，催化涂層

科研與特殊功能材料：超導材料，智能材料（制備傳感器或開關器件）

產品成分產品成分

產品成分