高純釩鉻V-Cr靶

高純釩鉻V-Cr靶

成分比例：V-10Cr V-30Cr V-50Cr；任意成分定制

常用規(guī)格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸靈活可定制

產(chǎn)品及公司優(yōu)勢

純度高、致密度高、晶粒細(xì)小、成分均勻、無偏析、濺射均勻、尺寸靈活、任意成分定制、品控嚴(yán)格、交期迅速

在生產(chǎn)陶瓷靶、難熔金屬靶、多元金屬靶上占有優(yōu)勢，通過SPS燒結(jié)工藝，純度高達(dá)5N，晶?？煽兀“胁娜债a(chǎn)能＞25塊，尺寸靈活，交付迅速，滿足科研實驗、半導(dǎo)體芯片高端制造的嚴(yán)苛要求，同步提供靶材實驗服務(wù)，7-15天快速交付，加速客戶產(chǎn)品迭代與性能驗證，持續(xù)為全球靶材行業(yè)賦能。

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準(zhǔn)提純，支持超大型靶材錠坯（單重500kg-2t）定制開發(fā)，純度達(dá)99.99%-99.999%。

檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設(shè)備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標(biāo)全流程監(jiān)控，嚴(yán)格把控品質(zhì)。

系列產(chǎn)品

金屬靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高純金屬蒸發(fā)料、化合物顆粒、高純靶材坯料，靶材用噴涂粉等。

產(chǎn)品應(yīng)用

適用工藝：磁控濺射、電子束蒸鍍

核工業(yè)：聚變堆第一壁涂層（V-30Cr）；快堆燃料包殼

航空航天：發(fā)動機(jī)熱端部件涂層（V-20Cr）

功能薄膜：超硬涂層（V-40Cr）；智能窗涂層（V-10Cr）

耐蝕裝備：化工反應(yīng)器襯里；海洋平臺關(guān)鍵部件

產(chǎn)品成分產(chǎn)品成分

產(chǎn)品成分