純度：99.99%；常用成分比例：80/20 60/40 4J40，可定制常用規(guī)格：直徑1.5mm、3mm、2mm、6mm或根據(jù)客戶要求生產(chǎn) -鎳鉻靶材坯料、高純鎳鉻軋板、鎳鉻擠壓管坯、鎳鉻旋轉(zhuǎn)靶坯料、99.95%高純鎳鉻錠、99.99%鎳鉻絲、99.99%鎳鉻顆粒提供NiV7/93、Cr、Zr、V、Ni、Co、Hf等系列高純靶材坯料

采用的電子束熔煉（EB）和真空自耗熔煉（VAR）工藝，實現(xiàn)高熔點金屬的精準提純，靶材錠坯純度達99.99%-99.999%，顯著提升靶材成膜均勻性與沉積效率，滿足半導(dǎo)體級靶材的嚴苛要求。檢測中心配備日本日立掃描電鏡（5萬倍）、ICP光譜儀等檢測設(shè)備，對材料成分、晶粒度、致密度等20余項指標全流程監(jiān)控，嚴格把控品質(zhì)。針對客戶需求，提供難熔金屬靶材解決方案，并自主研發(fā)SPS真空燒結(jié)設(shè)備，小靶材日產(chǎn)能≥25塊，同步提供靶材、絲、顆粒等制品，7-15天快速交付。

靶材薄膜制備原料，如半導(dǎo)體薄膜制備；顯示屏薄膜制備；液晶顯示薄膜制備 防護與高溫涂層制備；新能源與特殊功能材料制備鎳基高溫合金添加劑。