HMDS涂到樣品表面后，經(jīng)烘箱加溫可生成硅氧烷為主的化合物，將樣品表面由親水性變?yōu)槭杷裕耸杷阅軌蚝芎玫呐c光刻膠結(jié)合，增加了樣品表面與光刻膠的黏附作用

產(chǎn)品應(yīng)用：  晶圓勻膠前襯底助黏、“增附”處理

對于大部分光刻膠與Si襯底而言，其粘附性一般都是不錯(cuò)的，但是在光刻中，通常會(huì)用到一些例如藍(lán)寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會(huì)導(dǎo)致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋”甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

以石英、玻璃或硅表面的氧化物（自然氧化）的形式存在的二氧化硅以及大多數(shù)金屬在暴露于大氣中在一定的下濕度足夠長時(shí)間后在其表面形成極性O(shè)H鍵。這種襯底是親水性的，因此對光刻膠的非極性或低極性樹脂分子具有較差的親和力。為了使這樣的襯底表面具有疏水性，可以用化學(xué)方法將HMDS等非極性分子附著在其表面上。

HMDS與Si原子在無氧表面結(jié)合，與氧化基表面的氧原子(如有必要，OH基團(tuán)分解)結(jié)合，釋放出氨。非極性甲基直接隔離襯底表面形成疏水表面，與光刻膠具有良好的潤濕性和附著力。

工作原理：

在室溫下，HMDS蒸汽通過干燥的氮?dú)庠凇捌鹋萜鳌敝羞\(yùn)輸，然后傳遞到加熱的(75-120°C)基質(zhì)中，在襯底表面上HMDS作為單層膜進(jìn)行化學(xué)結(jié)合。

如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上，HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用，并不能改善粘附性；其次，HMDS層在前烘過程中釋放出氨，從襯底附近的進(jìn)入交聯(lián)的光刻膠層中，從而控制顯影過程。

產(chǎn)品特性：

外觀結(jié)構(gòu)：

★外殼采用A3冷軋鋼板裁剪、打磨、酸洗、磷化等表面防銹處理后烤漆，工作室采用SUS316#潔凈不銹鋼板滿焊、耐高溫密封處理，加強(qiáng)型結(jié)構(gòu)，確保箱體高壓無形變。

★工作室高氣密性，氣體泄漏量可達(dá)100pa/h。

★雙層防爆鋼化玻璃觀測窗，10mm防爆玻璃內(nèi)門。

★隔熱層采用100mm厚100K高密度硅酸鋁纖維保溫材料，保溫效果佳。

★門框密封采用無氟硅橡膠密封條，耐高溫，抗老化。

溫控系統(tǒng)：

★不銹鋼異性加熱器，環(huán)繞工作室外壁，四面加熱。

★7寸人機(jī)界面，PLC+PID+SSR控制，SSR無觸點(diǎn)等周期脈沖調(diào)寬，PID智能演算，自動(dòng)恒溫，超溫抑制，傳感器斷線警報(bào)，斷電記憶，控溫精準(zhǔn)，操控簡便。

★可依工藝設(shè)置多種運(yùn)行模式

★高精度PT100不銹鋼鎧裝鉑金電阻溫度傳感器

安全系統(tǒng)：

★按鍵鎖

★HMDS液位報(bào)警

★超溫保護(hù)

★電流過載保護(hù)

★相序保護(hù)

★漏電保護(hù)

★接地保護(hù)

規(guī)格參數(shù)：