硅烷即硅與氫的化合物，是一系列化合物的總稱，包括甲硅烷(SiH4)、乙硅烷(Si2H6)和一些更gaoji的硅氫化合物，通式為SinH2n+2。其中，甲硅烷Zui為常見，有時也將甲硅烷簡稱為硅烷

硅烷之在高科技中被廣泛應(yīng)用并且越來越重要,是與它的特性有關(guān)，也與現(xiàn)代高技術(shù)的特殊需求有關(guān)。通過熱分解或與其它氣體的化學(xué)反應(yīng)，可由硅烷制得單晶硅、多晶硅、非晶硅、金屬硅化物、氮化硅、碳化硅、氧化硅等一系列含硅物質(zhì)。利用硅烷可以實現(xiàn)Zui高的純度、Zui精細(xì)(可達(dá)原子尺寸)的控制和Zui靈活多變的化學(xué)反應(yīng)。從而將各種含硅材料按各種需要制成復(fù)雜精細(xì)的結(jié)構(gòu),這正是現(xiàn)代具有各種特異功能的材料和器件所要求的基本條件。

硅烷Zui早實用化和應(yīng)用量Zui大的是作為生產(chǎn)高純度硅的中間產(chǎn)物，一般稱為硅烷法。歷來生產(chǎn)高純度硅的主要方法是三氯氫硅法（西門子法）。

硅烷的又一應(yīng)用是非晶半導(dǎo)體非晶硅。與單晶半導(dǎo)體材料相比非晶硅的特點是容易形成極薄的(厚度10nm左右)大面積器件，襯底可以是玻璃、不銹鋼、甚至塑料，表面可以是平面也可是曲面，可以制成各種性能優(yōu)異的器件。

硅烷已成為半導(dǎo)體微電子工藝中使用的Zui主要的特種氣體, 用于各種微電子薄膜制備,包括單晶膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化硅、金屬硅化物等。硅烷的微電子應(yīng)用還在向縱深發(fā)展:低溫外延、選擇外延、異質(zhì)外延。不僅用于硅器件和硅集成電路，也用于化合物半導(dǎo)體器件（砷化鎵、碳化硅等）。在超晶格量子阱材料制備中也有應(yīng)用?？梢哉f現(xiàn)代幾乎所有先進(jìn)的集成電路的生產(chǎn)線都需用到硅烷。硅烷的純度對器件性能和成品率關(guān)系極大，更gaoji的器件需要更高純度的硅烷(包括乙硅烷、丙硅烷)。

硅烷作為含硅薄膜和涂層的應(yīng)用已從傳統(tǒng)的微電子產(chǎn)業(yè)擴(kuò)展到鋼鐵、機(jī)械、化工和光學(xué)等各個領(lǐng)域。含硅涂層可使普通鋼的高溫耐氧化能力提高到10萬倍以上,也可使其它金屬的高溫化學(xué)穩(wěn)定性大大改善，使內(nèi)燃機(jī)葉片的耐蝕性明顯增強(qiáng)，使各種材料和零件之間的粘結(jié)強(qiáng)度大幅度提高，使汽車發(fā)動機(jī)零件的壽命延長，也可改變玻璃的反射和透射性能，從而得到顯著的節(jié)能和裝飾效果。在浮法玻璃生產(chǎn)過程中用硅烷在玻璃表面涂敷一層反光層其粘附力極強(qiáng)在長期陽光照射下不褪色,透光率只有普通玻璃的1/3; 用氮化硅涂敷的大面積多晶硅電池（BSNSC）已達(dá)到15.7%的高效率。用硅烷氣相沉積技術(shù)制造各種含硅薄膜在高技術(shù)中的應(yīng)用還在與日俱增。

硅烷還有一潛在應(yīng)用是制造高性能陶瓷發(fā)動機(jī)零件尤其是使用硅烷制造硅化物（Si3N4 ,SiC等)微粉技術(shù)越來越受重視。美、日等國正在花成億美元開發(fā)用硅、氮化硅和碳化硅微粉制造耐高溫、高強(qiáng)度、高化學(xué)穩(wěn)定性陶瓷。使用硅烷氣應(yīng)的方法制備的微粉純度Zui高,粒度細(xì)而勻,可使陶瓷零部件性能大大提高。其應(yīng)用領(lǐng)域極廣，例如汽車發(fā)動機(jī)的閥門和透平增壓器轉(zhuǎn)子已實用化，高速軸承和高性能刀具已商品化，用于內(nèi)燃機(jī)可使工作溫度高達(dá)1400℃,大大提高熱機(jī)效率，適用多種燃料，延長使用壽命，還可作為火箭的隔熱瓦和隱身保護(hù)層。