PVD真空鍍膜-貴金屬膜層加工
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- 膜層厚度
- 納米、微米
- 膜層類型
- 貴金屬
- 設(shè)備特點(diǎn)
- 靶材利用率高
PVD真空鍍膜-貴金屬膜層加工
| 涂層類型 | 膜厚(um) | 主要應(yīng)用 |
| Au、Ag、lr、Re、Pt、Ta、Ti、Cu、Cr、Ni等 | 0.5-10 | 電子電子元器件、太陽能電池、高端制造、磁光信息存儲(chǔ)等 |
真空鍍膜設(shè)備，PVD鍍膜加工，類金剛石涂層加工，磁控濺射鍍膜機(jī)，純離子鍍膜設(shè)備
納米薄膜、機(jī)電一體化、機(jī)電設(shè)備、材料科學(xué)設(shè)備及技術(shù)研發(fā)、設(shè)計(jì)、安裝、維修、服務(wù)及銷售。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)）
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì)于2014年創(chuàng)立的高科技公司，坐落于合肥市高新區(qū)習(xí)友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設(shè)計(jì)、研發(fā)和制造；并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務(wù)。公司目前擁有設(shè)計(jì)、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc）、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學(xué)氣相沉積（CVD）等領(lǐng)域都...