PEPIC系列多元化高致密金屬鍍膜設備-浴室人妻的情欲HD三級國產(chǎn)メイリン モデルコレクション メ_成人視頻潘金蓮最新章節(jié)
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安徽純源鍍膜——PISC系列等離子體增強純離子鍍膜設備
設備優(yōu)勢：
?集純離子鍍膜技術（Pureion Cathode）+ 離子束清洗（Ionbeam）+磁控濺射（Sputter）+磁約束氣相沉積（Magneticconfinement-CVD）于一體，是PVD技術與CVD技術的一次完美融合；
?可實現(xiàn)TAC-DLC的組合，獲得TAC更高基礎硬度與結(jié)合力的同時，兼有DLC的沉積速率及細膩外觀；
?比單純CVD的結(jié)合力大幅度提升，同時降低了PVD的顆粒度，縮短工藝時間；
?可實現(xiàn)多種工藝C膜沉積，純離子鍍TAC，磁約束放電DLC，陽極層離子源鍍DLC等。
設備基本性能參數(shù) | |||
參數(shù) | PE213 | PE422 | PE624 |
鍍膜源類型 | 陽極層線性離子源、磁控濺射源、純離子鍍膜源 | ||
極限真空/漏率 | 5×10-4Pa / <10-11Pa?m3/s | ||
抽氣速率 | < 30分鐘(真空度3x10-3 Pa，空載) | ||
真空室尺寸 | Φ800*H675 | Φ1000*H1000 | Φ1400*H1100 |
均勻性 | ±5% | ||
可選配套電源 | 直流、脈沖直流、中頻、射頻、高功率脈沖等 | ||
工藝氣體 | Ar ，C2H2，N2、O2等 | ||
靶材匹配 | 石墨靶、Cr、Ti、Ni、Cu、Ta、Zr、W等金屬單質(zhì)或合金靶 | ||
真空系統(tǒng) | 機械泵+羅茨泵+分子泵 | ||
控制方式 | PLC+上位機 | ||
設備功率 | 30KW | 40KW | 60KW |
配套要求 | 循環(huán)水壓力：0.3-0.4MPa，壓縮空氣：0.5-0.75MPa | ||
真空鍍膜設備，PVD鍍膜加工，類金剛石涂層加工，磁控濺射鍍膜機，純離子鍍膜設備
納米薄膜、機電一體化、機電設備、材料科學設備及技術研發(fā)、設計、安裝、維修、服務及銷售。（依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動）
安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司，坐落于合肥市高新區(qū)習友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設計、研發(fā)和制造；并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務。公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc）、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積（CVD）等領域都...