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PVD真空鍍膜與噴涂效果差異

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工藝
真空離子鍍
服務項目
PVD涂層加工
鍍膜溫度
~100℃

PVD真空鍍膜與傳統(tǒng)的噴涂工藝和不同工藝呈現(xiàn)出的效果存在極大的差異。

PVD真空鍍膜:是一種在真空條件下采用的物理方法,主要方法:真空蒸發(fā)、磁控濺射、電弧等;采用此技術制備的超硬薄膜不僅具有超高硬度、且超薄、耐高溫、無污染,使用與工具、零件和摩擦磨損件表面的耐磨損、抗氧化、防腐蝕、自潤滑等特殊性能要求。

 


噴涂工藝:將涂料均勻噴涂在物體表面,形成一層保護膜,色彩膜,操作簡易。

關鍵詞

PVD真空鍍膜 , 真空鍍膜

更新時間
黃金會員
第3年
統(tǒng)一社會信用代碼
91340100394452746Q
成立日期
2014年10月23日
法定代表人
張心鳳
注冊資本
800

主營產(chǎn)品

真空鍍膜設備,PVD鍍膜加工,類金剛石涂層加工,磁控濺射鍍膜機,純離子鍍膜設備

經(jīng)營范圍

納米薄膜、機電一體化、機電設備、材料科學設備及技術研發(fā)、設計、安裝、維修、服務及銷售。(依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相關部門批準后方可開展經(jīng)營活動)

公司簡介

安徽純源鍍膜科技有限公司是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司,坐落于合肥市高新區(qū)習友路3789號。主要從事真空納米、微米級高端鍍膜裝備的設計、研發(fā)和制造;并提供多種功能膜層的工藝開發(fā)和鍍膜加工服務。公司目前擁有設計、研發(fā)、工藝、市場和生產(chǎn)等各方面的人才。在陰極?。–athode Arc)、磁控濺射(Sputter)、電子束蒸發(fā)(E-beam Evaporation)、離子束刻蝕清洗(IBE)、化學氣相沉積(CVD)等領域都...

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地址合肥市高新區(qū)習友路3789號
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