純?cè)村兡I(yè)定制鍍膜設(shè)備--磁控濺射鍍膜設(shè)備

設(shè)備主要特點(diǎn)及技術(shù)優(yōu)勢(shì)：

·獨(dú)特的空間設(shè)計(jì)和磁控濺射專利技術(shù)，可獲得均勻性好、結(jié)合力強(qiáng)、摩擦系數(shù)低的各類型薄膜，包括各種金屬、電子元器件、鐵磁材料以及絕緣的氧化物、陶瓷等；

·優(yōu)化的磁場(chǎng)設(shè)計(jì)，有效水冷設(shè)計(jì)，靶材可以連續(xù)24小時(shí)工作；

·模塊化工藝配方，靈活設(shè)定子配方和總配方，子配方添加/減方便，一鍵式操作即可完成多層工藝配方；

·友好的人機(jī)界面，實(shí)時(shí)記錄工藝數(shù)據(jù)，利于質(zhì)量管控、疑難分析、開發(fā)新工藝等；

·本項(xiàng)目為交鑰匙設(shè)備，純?cè)垂咎峁┱捉鉀Q方案，包括穩(wěn)定成熟鍍膜配方，設(shè)備交接后即可投產(chǎn)，可用于研發(fā)和量產(chǎn)；

·真空室尺寸，磁控濺射和陽離子清洗源、設(shè)備外觀等可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做，外圍尺寸根據(jù)客戶安裝場(chǎng)地條件可做調(diào)整。

設(shè)備參數(shù)：

設(shè)備應(yīng)用產(chǎn)品：