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EB200 系列電子束光刻膠EB200-040-玩弄端莊美婦雪臀奶水小說メイリン モデルコレクション メイ_小蕩貨腿張開給我cao免費視頻

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類型光刻膠型號適用光譜厚度um分辨率適用工藝AZ系列AZ5214,AZ4620,AZ6130等g/h/i-line1-30um1um可用于深硅刻蝕SU-8系列SU-8 10系列,20系列等g/h/i-line0.1-400um0.5um適合于高深寬比工藝,透明度高,垂直度好PILTC9000系列g/h/i-line4-50um4um用于非銅襯底工藝,固化溫度低可以達到250C°電子束膠HS/16電子束100nm350nm-810nm分辨率好的光刻膠,抗刻蝕

EB200 系列正性電子束光刻膠主要應用于射頻芯片、光電子芯片、掩膜制作等領域,

用于亞微米光刻工藝中圖形掩膜層制作,EB200 系列產(chǎn)品具有高分辨率、高感度、抗刻蝕等

優(yōu)點,產(chǎn)品技術、原材料已實現(xiàn)自主可控。EB200 series positive E-beam resist is usedin

sub-micron lithography process for RF chip, optoelectronic chip,mask layer production etc., EB200 series products have highresolution,sensitivity and dry etch resistance. 產(chǎn)品性能

? 膜厚范圍:30-500nm;

? 高分辨率(20nm);

? 高感度~60μC/cm2 (Dose to clear);

? 良好的工藝寬容度;

? 耐刻蝕性能;

? 安全溶劑;

FEATURES

? The thickness range:30-500nm;

? High resolution (20nm);

? High Sensitivity ~60μC/cm2;

? Good process margin latitude;

? Good dry etch resistance ;

? Safety solvent;

產(chǎn)品型號及參數(shù) PRODUCT RANGE & PARAMETER

Spin Curve Pattern Profiles

Sensitivity curve Dry etch resistance

Product name EB200-040 EB200-030 EB200-020 EB200-012

Film thickness 650-350nm 500-250nm 300-200nm 200-30nm

E

B

2

0

0

S

er


關鍵詞

EB200-040 , 電子束光刻膠 , EB200-020

更新時間
黃金會員
第7年
統(tǒng)一社會信用代碼
91350206MA31JFKEXH
成立日期
2018年03月19日
法定代表人
石進良
注冊資本
100

主營產(chǎn)品

半導體光刻膠,電子級蝕刻液,顯影液去膠液,半導體化學試劑,UV燈管

經(jīng)營范圍

五金產(chǎn)品批發(fā);電氣設備批發(fā);計算機、軟件及輔助設備批發(fā);通訊及廣播電視設備批發(fā);非金屬礦及制品批發(fā)(不含危險化學品和監(jiān)控化學品);金屬及金屬礦批發(fā)(不含危險化學品和監(jiān)控化學品);建材批發(fā);化肥批發(fā);其他化工產(chǎn)品批發(fā)(不含危險化學品和監(jiān)控化學品);貿(mào)易代理;其他貿(mào)易經(jīng)紀與代理;經(jīng)營各類商品和技術的進出口(不另附進出口商品目錄),但國家限定公司經(jīng)營或禁止進出口的

公司簡介

主營業(yè)務:顯影液、漂洗液、光刻膠、聚酰亞胺、冰箱儲存、化學試劑、國產(chǎn)試劑、半導體材料、電子專用材料、銳材表面活性劑美國PTI粉塵,日本JIS粉塵,德國DMT粉塵,美國AATCC測試用,英國SDC,JAMESH,日本測試用品,理美國PTI公司雜質(zhì)顆粒尺寸分析試驗、檢測設備及各種試驗粉塵。代理德國DMT公司的符合IEC 60312標準的試驗粉塵。 同時,公司還代理進口日本JIS標準試驗粉塵。 滿足國內(nèi)汽車零部件、纖,電子等行業(yè)企業(yè)的實驗室以...

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