磁控濺射靶材

（

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3n-6n）：鋁靶al，鉻靶cr，銅靶cu，鎳靶ni，硅靶si，鍺靶g(shù)e，鈮靶nb，鈦鈀ti，銦靶in，銀靶ag，錫靶sn，石墨靶c，鉭靶ta，鉬靶mo，金靶au，鉿靶hf，錳靶mn，鋯靶zr，鎂靶mg，鋅靶zn，鉛靶pb，銥靶ir，釔靶y，鈰靶ce，鑭靶l(wèi)a，鐿靶yb，釓靶g(shù)d，鉑靶pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。

高密度陶瓷濺射靶材（3n-5n）：ito靶、azo靶，igzo靶，氧化鎂靶mgo、氧化釔靶y2o3，氧化鐵靶fe2o3,氧化鎳靶ni2o3，氧化鉻靶cr2o3、氧化鋅靶zno、硫化鋅靶zns、硫化鎘靶cds，硫化鉬靶mos2，二氧化硅靶sio2、一氧化硅靶sio、二氧化鋯靶zro2、五氧化二鈮靶nb2o5、二氧化鈦靶tio2,二氧化鉿靶hfo2，二硼化鈦靶tib2，二硼化鋯靶zrb2，三氧化鎢靶wo3，三氧化二鋁靶al2o3，五氧化二鉭靶ta2o5、氟化鎂靶mgf2、硒化鋅靶znse、氮化鋁靶aln，氮化硅靶si3n4，氮化硼靶bn，氮化鈦靶tin，碳化硅靶sic，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.

備注：cnm生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界Zui先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對(duì)密度大于95-99%?？梢蕴峁┌胁牡慕饘倩幚砑敖壎ǚ?wù)。

高純合金濺射靶材：鎳釩合金靶ni-v，鎳鉻合金靶ni-cr，鈦鋁合金靶ti-al，硅鋁合金靶si-al，銅銦合金靶cu-in，銅鎵合金靶cu-ga，銅銦鎵合金靶cu-in–ga，銅銦鎵硒靶cu-in –ga-se，不銹鋼靶，鋅鋁合金靶zn-al，鎢鈦 w-ti，鐵鈷fe-co，白銅靶等高純合金濺射靶材。

備注：cnm生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對(duì)密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。