磁控濺射鍍膜設(shè)備主要是采用本公司成熟的專利技術(shù)：高能離子束清洗+磁控濺射源。設(shè)備采用全自動化控制，模塊化集成優(yōu)化，設(shè)備功率高、穩(wěn)定性能好、操作簡單且維護(hù)方便。為滿足不同的鍍膜需求腔室內(nèi)可設(shè)計配置平面圓形靶、條形靶和圓柱靶等多種靶材，可獲得致密度高、均勻性能好的多層復(fù)合膜，包括各種金屬、電子元器件、鐵磁材料以及絕緣的氧化物、陶瓷薄膜等。適合研發(fā)及批量鍍膜服務(wù)。

主要應(yīng)用：

>金屬、非金屬及陶瓷氧化物的各類膜層和復(fù)合膜層；

>太陽能電池、液晶顯示;

>磁光信息存儲、鐵磁材料；

>硬質(zhì)耐磨、材料保護(hù)和防腐等各個領(lǐng)域。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

>靈活性高、應(yīng)用范圍廣；

>專利技術(shù)、工藝成熟;

>膜層性能優(yōu)越：硬度高、摩擦系數(shù)低;

>多種膜層系列、可大批量高效率生產(chǎn)等。