準分子激光氣 青島 99.999（％）
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- 13375322998
- 產(chǎn)商/產(chǎn)地
- 青島
- 含量
- 99.999（％）
- 執(zhí)行質量標準
- 行業(yè)標準
高功率準分子激光氣體 | ||
可用波長 | 193 nm | arf |
248 nm | krf | |
308 nm | xecl | |
450nm~520nm | xef | |
Zui大紫外功率 | 540 w | |
Zui大紫外能量 | 1100 mj | |
重復頻率 | 可變， 1~600 hz | |
脈沖穩(wěn)定性 | 0.5%~1%，rms | |
長期漂移 | 0.1%~0.5%，rms | |
光束分布 | 均勻，平頂 | |
脈沖寬度 | 10~20 ns | |
相關氣體純度 | f2, 99.9% ar, 99.9999% he, 99.9999% ne, 99.9999% hcl, 電子級 kr, 99.999% xe, 99.999% o2, 99.999% h2, 99.999% | |
氣體工作溫度 | - 40 0c ~ + 74 0c | |
氣體壓力 | 520 psig ~ 2400 psig / 35 bar ~ 167 bar | |
鋼瓶規(guī)格 | 10l、16l、20l、50l | |
閥門接口 | cga 679、cga 330、cga 580、din 6、din 8、din14 | |
安全手冊 | 請在本公司網(wǎng)站閱讀或下載。 | |
適用機型 | 波長 nm | 鋼瓶規(guī)格 | 閥門規(guī)格 | 工作氣體 |
鷹視（coherent） | 193 | 20 l | din 8 | f2, 99.9% ar, 99.9999% he, 99.9999% ne, 99.9999% |
博士倫（b & l） | 193 | 20 l、50 l | din 8 | |
蔡司（zeiss） | 193 | 10l、20 l | din 8 | |
威視（visx） | 193 | 16 l | cga 679 | |
尼德克（nidek） | 193 | 16 l | cga 679 | |
雷賽（lasersight） | 193 | 10 l | cga 679 | |
愛爾康（alcon） | 193 | 16 l | cga 679 | |
康奧（schwind） | 193 | 20 l | din 8、 din 14 | |
視可佳（六六視覺） | 193 | 16 l | cga 679 | |
森美（summit） | 193 | 16 l | cga 679 | |
科醫(yī)人（coherent） | 308 | 8 l | cga 330 | hcl,電子級 xe，99.9995% ne,99.9999% |
美國 photomedex | 308 | 8 l | cga 330 |
品 牌 | 機 型 | 波 長 | 工作氣體 |
atl | atl arf-1 | 193 nm | f2,ar,xe,ne |
atl krf-1 | 248 nm | f2,kr,xe,ne | |
tui | ctfts-arfv 2.2 | 193 nm | f2,ar,he,ne |
ctfts-krfv 2.1 | 248 nm | f2,kr,he,ne | |
ctfts-krfv 2.2 | 248 nm | f2,kr,he,xe,ne | |
ctmd-arfv 2.0 | 193 nm | f2,ar,he,o2,ne | |
ctmd-xeclv 2.1 | 308 nm | hcl,h2,xe,ne | |
ctmn-arfv 2.0 | 193 nm | f2,ar,he,ne | |
ctmn-arfv 2.1 | 193 nm | f2,ar,he,ne | |
ctmn-krfv 1.0 | 248 nm | f2,kr,he,ne | |
ctmn-krfv 2.0 | 248 nm | f2,kr,he,ne | |
ctmn-xeclv 2.0 | 308 nm | hcl,h2,xe,ne | |
ctmn-xeclv 5.0 | 308 nm | hcl,h2,xe,ne | |
ctmn-xefv 1.1 | 450nm~520nm | f2,xe,he,ne | |
ctmn-xefv 1.2 | 450nm~520nm | f2,xe,he,ne | |
gam laser | ex5 arf | 193 nm | f2,ar,he,o2,ne |
ex5 krf | 248 nm | f2,kr,he,ne | |
ex5 xecl | 308 nm | hcl,h2,xe,ne | |
ex10 | 193 nm | f2,ar,he,ne | |
ex50 | 193 nm | f2,ar,he,ne | |
ex100 | 193 nm | f2,ar,he,ne | |
photomedex | xecl | 308 nm | hcl,xe,ne |
photoscribe | arf | 193 nm | f2,ar,ne |
krf | 248 nm | f2,kr,ne | |
potomac photonics | arf | 193 nm | f2,ar,ne |
krf | 248 nm | f2,kr,ne | |
spectranetics | xecl | 308 nm | hcl,h2,xe,ne |
激光氣;氣體減壓器;氣體管路;氦氣;高純氣體;不銹鋼減壓器;氣體匯流排;激光氣體;實驗室氣體管路;低溫液體儲槽
許可經(jīng)營項目:批發(fā)（禁止儲存）第2.2類不燃氣體和液化氣體：氧、氮、氬、氦氣、空氣、二氧化碳、稀有氣體混合物。（危險化學品經(jīng)營許可證 有效期至：2015-04-26）。一般經(jīng)營項目:批發(fā)：壓力容器、焊接切割設備、勞動防護用品及零配件、儀器儀表、閥門、五金電器、機電設備、化工原料（不含危險化學品）；...
實用氣體于1989年在新加坡成立，公司生產(chǎn)并銷售工業(yè)氣體、特殊氣體及氣體設備，同時根據(jù)客戶要求提供全方位服務。公司致力于研究與開發(fā)氣體的應用技術，設計與制造氣體設備及氣體分析、檢測 自2002年進入中國設立第一家子公司以來，一直致力于為中國的工業(yè)提供優(yōu)質的產(chǎn)品和服務。迄今為止,已在中國投資了多家企業(yè)，分布在中國的上海、江蘇、山東、廣州、四川、重慶、遼寧、陜西等地區(qū)。...